高纯二氧化硅的制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117023595A

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202310955465.1

    申请日:2023-08-01

    Abstract: 本发明公开了一种高纯二氧化硅的制备方法,包括:将二氧化硅颗粒在第一温度下进行处理;将第一温度下处理的二氧化硅颗粒在第二温度下进行处理;将第二温度下处理的二氧化硅颗粒在第三温度下进行处理;将第三温度下处理的二氧化硅进行冷却,得到高纯二氧化硅;第一温度为80℃‑600℃,第二温度为600℃‑1050℃,第三温度为1050℃‑1350℃,第一温度小于第二温度,第二温度小于第三温度。在本发明实施例的高纯二氧化硅的制备方法中,通过将二氧化硅颗粒在不同温度下进行处理,可以降低二氧化硅中羟基、碳含量、氯含量,提高二氧化硅的纯度。

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