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公开(公告)号:CN103864028A
公开(公告)日:2014-06-18
申请号:CN201410129400.2
申请日:2014-04-02
Applicant: 新疆大学
Abstract: 本发明公开了一种Sn掺杂GaN粉体的制备方法,本发明采用化学气相沉积法,以高纯Ga2O3粉、高纯Sn粉、NH3气分别作为Ga源、Sn源和N源,在研钵中研磨Ga2O3粉和高纯Sn粉使其充分混合。将盛有混合粉末的陶瓷舟置于中央加热区处,密封水平管式炉,炉内真空度抽至1Pa,然后用氩气反复洗气两次,最后当氩气充到常压后开始加热。当温度达到1000℃时,用150sccm的NH3气代替氩气并保温2h。然后停止加热,并用氩气代替NH3气,自然冷却到室温。得到的样品在HCI溶液中清洗,然后放进干燥箱中,在60℃下烘干,得到样品。本发明的特点是:方法简单,成本低,产率高,对环境危害小,可以批量生产。