膜厚仪
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103424078A

    公开(公告)日:2013-12-04

    申请号:CN201210152283.2

    申请日:2012-05-15

    发明人: 惠俊杰

    IPC分类号: G01B11/06

    CPC分类号: G01B11/0616

    摘要: 一种用于测量晶圆上薄膜厚度的膜厚仪,该膜厚仪的光束调整箱与晶圆承载台一侧设有气流产生器,该气流产生器能够在光束调整箱与晶圆承载台之间产生气流,从而将晶圆挥发的气体吹走,避免或者减少晶圆挥发的气体进入光束调整箱,光束调整箱内的镜片不易受到污染,因此该膜厚仪的测量结果不易受到影响,测量精度较高。

    膜厚仪
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103424078B

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201210152283.2

    申请日:2012-05-15

    发明人: 惠俊杰

    IPC分类号: G01B11/06

    CPC分类号: G01B11/0616

    摘要: 一种用于测量晶圆上薄膜厚度的膜厚仪,该膜厚仪的光束调整箱与晶圆承载台一侧设有气流产生器,该气流产生器能够在光束调整箱与晶圆承载台之间产生气流,从而将晶圆挥发的气体吹走,避免或者减少晶圆挥发的气体进入光束调整箱,光束调整箱内的镜片不易受到污染,因此该膜厚仪的测量结果不易受到影响,测量精度较高。