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公开(公告)号:CN109414645B
公开(公告)日:2021-09-10
申请号:CN201780023613.9
申请日:2017-04-17
申请人: 日产化学株式会社 , 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: B01D53/22 , B01D71/02 , B01D71/26 , B01D71/64 , B01D71/68 , B01D71/70 , B82Y40/00 , C01B33/18 , C09C1/28 , C09C3/10
摘要: 气体分离膜的制造方法,其包括下述的(a)、(b)、(c)及(d)工序:(a)工序:针对已被分散于第1溶剂中的二氧化硅纳米粒子的表面,保持被分散于前述第1溶剂中的状态而利用含有反应性官能团的化合物进行处理,得到经反应性官能团修饰的二氧化硅纳米粒子的第1溶剂分散液的工序;(b)工序:将前述(a)工序中得到的第1溶剂分散液的分散介质在不经干燥的情况下置换成第2溶剂,然后在第2溶剂存在下,使经反应性官能团修饰的二氧化硅纳米粒子与树枝状分子形成用单体或超支化分子形成用单体反应,得到附加有树枝状高分子或超支化高分子的二氧化硅纳米粒子的工序;(c)工序:将前述(b)工序中得到的前述附加有树枝状高分子或超支化高分子的二氧化硅纳米粒子与基体树脂混合的工序;(d)工序:将前述(c)工序中得到的混合液涂布于基材,然后将溶剂除去的工序。
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公开(公告)号:CN109641185A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201780051891.5
申请日:2017-08-21
申请人: 日产化学株式会社 , 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: B01D71/70 , B01D71/24 , B01D71/26 , B01D71/44 , B01D71/52 , B01D71/64 , B01D71/68 , C01B33/146
CPC分类号: B01D71/78 , B01D53/228 , B01D69/148 , B01D71/24 , B01D71/26 , B01D71/44 , B01D71/52 , B01D71/64 , B01D71/68 , B01D71/70 , B01D71/82 , B01D2323/08 , B01D2323/36 , B01D2323/38 , B01D2323/40 , B82Y30/00 , C01B33/146
摘要: 本发明涉及气体分离膜,其特征在于含有:附加有超支化高分子或树枝状高分子的异形二氧化硅纳米粒子,其是在异形二氧化硅纳米粒子的表面附加超支化高分子或树枝状高分子而形成的;和基体树脂。
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公开(公告)号:CN109641185B
公开(公告)日:2021-08-24
申请号:CN201780051891.5
申请日:2017-08-21
申请人: 日产化学株式会社 , 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: B01D71/70 , B01D71/24 , B01D71/26 , B01D71/44 , B01D71/52 , B01D71/64 , B01D71/68 , C01B33/146
摘要: 本发明涉及气体分离膜,其特征在于含有:附加有超支化高分子或树枝状高分子的异形二氧化硅纳米粒子,其是在异形二氧化硅纳米粒子的表面附加超支化高分子或树枝状高分子而形成的;和基体树脂。
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公开(公告)号:CN109414645A
公开(公告)日:2019-03-01
申请号:CN201780023613.9
申请日:2017-04-17
申请人: 日产化学株式会社 , 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: B01D53/22 , B01D71/02 , B01D71/26 , B01D71/64 , B01D71/68 , B01D71/70 , B82Y40/00 , C01B33/18 , C09C1/28 , C09C3/10
摘要: 气体分离膜的制造方法,其包括下述的(a)、(b)、(c)及(d)工序:(a)工序:针对已被分散于第1溶剂中的二氧化硅纳米粒子的表面,保持被分散于前述第1溶剂中的状态而利用含有反应性官能团的化合物进行处理,得到经反应性官能团修饰的二氧化硅纳米粒子的第1溶剂分散液的工序;(b)工序:将前述(a)工序中得到的第1溶剂分散液的分散介质在不经干燥的情况下置换成第2溶剂,然后在第2溶剂存在下,使经反应性官能团修饰的二氧化硅纳米粒子与树枝状分子形成用单体或超支化分子形成用单体反应,得到附加有树枝状高分子或超支化高分子的二氧化硅纳米粒子的工序;(c)工序:将前述(b)工序中得到的前述附加有树枝状高分子或超支化高分子的二氧化硅纳米粒子与基体树脂混合的工序;(d)工序:将前述(c)工序中得到的混合液涂布于基材,然后将溶剂除去的工序。
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公开(公告)号:CN102850802A
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201210263911.4
申请日:2012-04-20
申请人: 公立大学法人首都大学东京 , 信越化学工业株式会社
CPC分类号: B01D53/228 , B01D69/141 , B01D71/70 , C08G77/16 , C08K3/36 , C08K5/5419 , C08L83/00 , C08L83/04 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2998
摘要: 一种室温可固化有机基聚硅氧烷组合物。该组合物包含:(I)有机基聚硅氧烷,该有机基聚硅氧烷为组分(A)(包含R3SiO1/2单元和SiO4/2单元并且含有0.02-0.12mol/100g键连到硅原子上的羟基的有机基聚硅氧烷)和组分(B)(在其相应末端具有羟基的二有机基聚硅氧烷生胶)的缩合产物;(II)平均每分子具有至少2个键连到硅原子上的可水解基团的有机基硅烷化合物,和/或其部分水解缩合物;(III)溶剂;和(IV)具有通过支化结构改性表面的二氧化硅纳米粒子。该组合物能够提供高强度膜,而不必加入增强填料,通过无机纳米粒子没有固化抑制,并且不会抑制通过无机纳米粒子实现的气体分离性能。
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公开(公告)号:CN109642388B
公开(公告)日:2022-07-08
申请号:CN201780051690.5
申请日:2017-08-21
申请人: 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: D06M13/292 , D04H1/728 , D06M15/21 , H01B1/06 , H01M8/02 , H01M8/1016
摘要: 【课题】开发用于构成复合电解质膜的新型纳米纤维,提供即使在薄至30μm以下时也具有充分的离子电导率(质子传导性)和阻气性的电解质膜。【解决手段】表面修饰纳米纤维和包含该纳米纤维的电解质膜、以及复合膜的制造方法,所述表面修饰纳米纤维的特征在于,在聚合物纳米纤维的表面修饰有酸性物质和碱性物质,该酸性物质具有质子传导性,该碱性物质增大酸性物质的修饰量,所述复合膜的制造方法具备:形成包含聚合物纳米纤维的无纺布的工序;对前述无纺布进行表面修饰处理的工序;在前述无纺布的空隙中填充基质聚合物,使表面修饰纳米纤维与基质聚合物一体化的工序;以及对包含表面修饰纳米纤维的电解质膜进行后处理的工序。
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公开(公告)号:CN102850802B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201210263911.4
申请日:2012-04-20
申请人: 公立大学法人首都大学东京 , 信越化学工业株式会社
CPC分类号: B01D53/228 , B01D69/141 , B01D71/70 , C08G77/16 , C08K3/36 , C08K5/5419 , C08L83/00 , C08L83/04 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2998
摘要: 一种室温可固化有机基聚硅氧烷组合物。该组合物包含:(I)有机基聚硅氧烷,该有机基聚硅氧烷为组分(A)(包含R3SiO1/2单元和SiO4/2单元并且含有0.02?0.12mol/100g键连到硅原子上的羟基的有机基聚硅氧烷)和组分(B)(在其相应末端具有羟基的二有机基聚硅氧烷生胶)的缩合产物;(II)平均每分子具有至少2个键连到硅原子上的可水解基团的有机基硅烷化合物,和/或其部分水解缩合物;(III)溶剂;和(IV)具有通过支化结构改性表面的二氧化硅纳米粒子。该组合物能够提供高强度膜,而不必加入增强填料,通过无机纳米粒子没有固化抑制,并且不会抑制通过无机纳米粒子实现的气体分离性能。
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公开(公告)号:CN109642388A
公开(公告)日:2019-04-16
申请号:CN201780051690.5
申请日:2017-08-21
申请人: 公立大学法人首都大学东京
IPC分类号: D06M13/292 , D04H1/728 , D06M15/21 , H01B1/06 , H01M8/02 , H01M8/1016
摘要: 开发用于构成复合电解质膜的新型纳米纤维,提供即使在薄至30μm以下时也具有充分的离子电导率(质子传导性)和阻气性的电解质膜。表面修饰纳米纤维和包含该纳米纤维的电解质膜、以及复合膜的制造方法,所述表面修饰纳米纤维的特征在于,在聚合物纳米纤维的表面修饰有酸性物质和碱性物质,该酸性物质具有质子传导性,该碱性物质增大酸性物质的修饰量,所述复合膜的制造方法具备:形成包含聚合物纳米纤维的无纺布的工序;对前述无纺布进行表面修饰处理的工序;在前述无纺布的空隙中填充基质聚合物,使表面修饰纳米纤维与基质聚合物一体化的工序;以及对包含表面修饰纳米纤维的电解质膜进行后处理的工序。
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