-
公开(公告)号:CN1972866B
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200480043378.4
申请日:2004-07-08
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/18 , C09C1/28 , C09D201/00 , C09D7/12
CPC classification number: C09C1/3081 , B82Y30/00 , C01B13/363 , C01B33/146 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C08K7/26 , C08K9/06 , C09C1/3045 , C09C1/309 , C09D7/67 , C09D7/68 , C09D7/70 , Y10T428/26 , Y10T428/2984
Abstract: 为了得到低折射率的二氧化硅类微粒,制成外壳内部具有空洞的中空球状二氧化硅类微粒。通过如下操作制备二氧化硅类微粒,即在碱性水溶液中同时加入硅酸盐水溶液及/或酸性硅酸液和碱可溶的无机化合物水溶液配制复合氧化物微粒分散液时,加入电解质盐直至电解质盐的摩尔数(ME)与SiO2的摩尔数(MS)之比(ME/MS)在0.1~10的范围内后,使粒子生长,然后,根据需要在上述复合氧化物微粒分散液中再加入电解质盐,之后加入酸除去至少一部分构成上述复合氧化物微粒的除硅之外的元素而制成。