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公开(公告)号：CN118786088A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202380022651.8
申请日：2023-03-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/12 , C01B33/18 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 提供一种具有均衡适度的崩解性且崩解均匀性优异的多孔二氧化硅粒子及其制造方法。根据本发明的多孔二氧化硅粒子具有网眼结构，在施加以0.001450gf/sec的比例增加的压缩力时，发生弹性变形直至失效点。失效点处的压缩力f(gf)和位移量d(μm)的比“f/d”为0.05‑0.10。多孔二氧化硅粒子的孔容为0.4cm3/g‑1.3cm3/g，孔径的众数值为2nm‑50nm，具有孔径的众数值的±25％以内的大小的孔的合计孔容为孔容的40％以上，平均形状系数为0.90‑1.00，形状系数小于0.80的粒子的含有率为3.0个％以下，平均压缩强度为9.8N/mm2‑小于29.4N/mm2。
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公开(公告)号：CN118724005A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410364324.7
申请日：2024-03-28
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/193 , C08K7/26 , C08L63/00
Abstract: [问题]本发明提供一种在能够实现绝缘层的低介电常数化及低介电损耗角正切化的同时能够实现绝缘层的薄膜化的填料。[解决手段]一种含有在外壳的内部具有空腔的中空粒子的粉体，其中，所述粉体的平均粒径(D50)为0.1μm～5.0μm，所述粉体最大粒径(D100)为20.0μm以下，所述粉体的粒度分布中的峰粒径(Ps)×0.75μm～(Ps)×1.25μm范围的粒子体积之和为全部粒子总体积的50％以下，所述粉体的孔隙率为10％～50％，所述粉体的破裂粒子率为10体积％以下，所述外壳含有70质量％以上的二氧化硅。
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公开(公告)号：CN113462219A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110342025.X
申请日：2021-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D5/24 , C09D183/04 , C09D7/20
Abstract: [技术问题]提高含有导电粒子以及结合至该导电粒子的粘合剂成分的涂布液的保存稳定性。[技术手段]根据本发明的用于形成导电膜的涂布液含有链状导电粒子、高沸点溶剂、低沸点溶剂以及可结合至链状导电粒子的烷氧基硅烷低聚物。在该涂布液中，相对于链状导电粒子和烷氧基硅烷低聚物的总量，含有35质量％～75质量％的链状导电粒子；在用动态光散射式粒度分布计测定的涂布液的粒径分布中，平均粒径为100nm以上；以体积为基准，从粒径小的一侧累积到16％时的粒径D16与累积到84％时的粒径D84之间的差(D84‑D16)为200nm以上。
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公开(公告)号：CN106009788B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201610202193.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明涉及覆膜形成用涂布液和其制造方法、和带覆膜的基材的制造方法。对于本发明的透明覆膜形成用涂布液，在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、式(2)所示的3官能以上的硅烷化合物和其水解缩合物中的至少一者(B成分)以及式(3)所示的金属醇盐和其水解缩合物中的至少一者(C成分)。此时，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2.0的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.1以上且9.0以下的范围。(R3)(4‑m)Si(R4)m(2)M(OR5)n(3)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104870183B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201380067551.3
申请日：2013-12-24
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09K3/18 , B05D7/50 , B32B3/30 , B32B9/00 , B32B2307/412 , B32B2307/73 , B32B2605/00 , C03C17/3411 , C03C2217/42 , C03C2217/76 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明提供拒水性高、与基材的密合性、耐磨损性、耐擦伤性等提高了的拒水性透明被膜。一种带有拒水性透明被膜的基材，其特征是，由基材、和该基材表面的拒水性透明被膜构成，上述拒水性透明被膜由包含无机氧化物微粒的无机氧化物微粒层、和该无机氧化物微粒层上的保护涂层构成，拒水性透明被膜表面具有凹凸结构，该凸部的平均高度(TF)在30～500nm的范围，平均凸部间距离(间距宽度)(WF)在50～1000nm的范围，与水的接触角在130～180°的范围。上述平均高度(TF)和上述平均凸部间距离(WF)的比值(TF)/(WF)在0.1～10的范围。上述凹凸结构的凸部的表面还具有微细凹凸，该微细凸部的平均高度(TFF)在3～50nm的范围，平均凸部间距离(WFF)比上述凸部的平均凸部间距离(WF)小，且在3～50nm的范围。
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公开(公告)号：CN103515457A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310256586.3
申请日：2013-06-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521 , H01G9/209 , H01G9/2036
Abstract: 本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)：(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。
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公开(公告)号：CN101397422A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200810215004.6
申请日：2008-08-29
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12 , B01J13/00 , C09D183/04 , G02B1/10
Abstract: 本发明涉及改性氧化锆微粒、带硬涂膜的基材及可形成该硬涂膜的涂布液。改性氧化锆微粒是表面被五氧化锑及/或二氧化硅覆盖的氧化锆微粒，在下述条件下测定该氧化锆微粒的表面电位时，其值在－120～－10mV的范围内，条件(1)：改性氧化锆微粒分散液的固形成分浓度为1重量％，条件(2)：改性氧化锆微粒分散液的pH在2～13的范围内。
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公开(公告)号：CN115315412B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202180021975.0
申请日：2021-03-17
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01G23/00 , C09C1/36 , C09D17/00 , C09D201/00 , C09D7/62
Abstract: 本发明提供维持高折射率、并且光催化活性受到了抑制的氧化钛类微粒等。被覆氧化锆的氧化钛微粒分散液的制造方法包括：(1)准备氧化钛微粒的分散液(1)的工序；(2)在所述分散液(1)中，相对于100质量份所述氧化钛微粒，添加换算为ZrO2的质量计为1～50质量份的过氧化锆酸的水溶液后，进行由所述氧化钛微粒和所述过氧化锆酸的反应得到的反应微粒(2a)的熟化，得到被覆氧化锆的氧化钛微粒前体(2b)的分散液(2)的工序；(3)将所述分散液(2)的固体成分浓度调整为0.01～10质量％后进行水热处理的工序。
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