离子注入方法及设备
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101510505B

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN200910004112.3

    申请日:2009-02-12

    Inventor: 日野雅泰

    Abstract: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。

    离子注入方法及设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101510505A

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200910004112.3

    申请日:2009-02-12

    Inventor: 日野雅泰

    Abstract: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。

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