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公开(公告)号：CN107112176A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580073315.1
申请日：2015-10-08
申请人： 日新离子机器株式会社
摘要： 实现离子束引出用电极的维护性提高。离子束引出用电极(E)包括：具有供离子束通过的开口部的电极部(1)、固定支承电极部(1)的支承框(11)，支承框(11)形成有制冷剂流路(12)，并且具有在电极部(1)配置于支承框(11)时在与离子束通过方向大致垂直的面内限制电极部(1)移动的移动限制部(13)。
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公开(公告)号：CN108735564B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201711224060.1
申请日：2017-11-29
申请人： 日新离子机器株式会社
摘要： 本发明提供一种定位销及离子源，所述定位销的固定结构得到了简化。所述定位销(P)用于构成离子源的引出电极系统的电极的安装，在定位销(P)的长边方向的两个端部中，在第一端部(11)形成有螺丝(S)，与第一端部(11)相反侧的第二端部(12)为锥形。
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公开(公告)号：CN107833818B
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201710521360.X
申请日：2017-06-30
申请人： 日新离子机器株式会社
IPC分类号： H01J27/14
摘要： 本发明提供一种离子源，不需要用于将支承基体保持在所希望的位置的止动件或控制就能将支承基体简单地保持在所希望的位置。在等离子体生成室周围配置永磁铁的离子源具备：阴极，插通于等离子体生成室内，向等离子体生成室内放出电子；支承基体，设置于等离子体生成室外部而支承阴极；驱动机构，使支承基体向从等离子体生成室的外壁面拉开的方向移动；以及伸缩部件，介于支承基体与等离子体生成室的外壁面之间并覆盖贯通孔的周围，将支承基体与等离子体生成室的外壁面之间的空间保持为气密，被驱动机构的驱动力从等离子体生成室的外壁面拉开的处于后退位置的支承基体被吸引力向相比后退位置靠等离子体生成室的外壁面处拉近而被保持在前进位置。
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公开(公告)号：CN108735564A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201711224060.1
申请日：2017-11-29
申请人： 日新离子机器株式会社
摘要： 本发明提供一种定位销及离子源，所述定位销的固定结构得到了简化。所述定位销(P)用于构成离子源的引出电极系统的电极的安装，在定位销(P)的长边方向的两个端部中，在第一端部(11)形成有螺丝(S)，与第一端部(11)相反侧的第二端部(12)为锥形。
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公开(公告)号：CN107833818A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201710521360.X
申请日：2017-06-30
申请人： 日新离子机器株式会社
IPC分类号： H01J27/14
CPC分类号： H01J27/14
摘要： 本发明提供一种离子源，不需要用于将支承基体保持在所希望的位置的止动件或控制就能将支承基体简单地保持在所希望的位置。在等离子体生成室周围配置永磁铁的离子源具备：阴极，插通于等离子体生成室内，向等离子体生成室内放出电子；支承基体，设置于等离子体生成室外部而支承阴极；驱动机构，使支承基体向从等离子体生成室的外壁面拉开的方向移动；以及伸缩部件，介于支承基体与等离子体生成室的外壁面之间并覆盖贯通孔的周围，将支承基体与等离子体生成室的外壁面之间的空间保持为气密，被驱动机构的驱动力从等离子体生成室的外壁面拉开的处于后退位置的支承基体被吸引力向相比后退位置靠等离子体生成室的外壁面处拉近而被保持在前进位置。
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公开(公告)号：CN207338293U
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201721103207.7
申请日：2017-08-30
申请人： 日新离子机器株式会社
IPC分类号： H01J37/08
摘要： 本实用新型提供一种离子源(IS)，能够调整等离子体生成室(6)内的阴极配置，提高与等离子体生成有关的离子化气体的利用效率。离子源(IS)在等离子体生成室(6)的周围具备永磁铁(10)，其中，具备：阴极(1)，向等离子体生成室(6)内供给电子；支承基体(B)，对阴极(1)进行支承，配置在等离子体生成室(6)的外侧；贯通孔(H)，形成在等离子体生成室(6)的壁面，供阴极(1)插通；以及伸缩部件(4)，覆盖贯通孔(H)的周围，将等离子体生成室(6)的外壁面与支承基体(B)之间的空间保持为气密，使支承基体(B)与等离子体生成室(6)的外壁之间的距离可变。
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