公开(公告)号：CN101553538A

公开(公告)日：2009-10-07

申请号：CN200780045069.4

申请日：2007-11-30

申请人： 日本化学工业株式会社 ,  东邦颜料工业株式会社

发明人： 木之濑丰 ,  田中保之 ,  横山稔 ,  山影康 ,  内山平二

IPC分类号： C09C1/00 ,  C09C1/02 ,  C09C1/28 ,  C09D5/08 ,  C09D5/10 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  C23F11/00

CPC分类号： C09D5/084 ,  C09D5/10

摘要： 本发明提供了能够为金属材料赋予优异防锈性的无公害型防锈颜料以及含有该颜料的防锈涂料组合物。本发明的防锈涂料组合物特征在于，包含含有P2O5、CaO、SiO2和MgO的非晶质无机组合物，其特征在于，优选包含含有10～30质量％的P2O5、20～40质量％的CaO、10～30质量％的SiO2和10～20质量％的MgO的非晶质无机组合物。

公开(公告)号：CN1717366A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200480001599.5

申请日：2004-06-28

申请人： 日本化学工业株式会社

发明人： 石川贤一 ,  横井敬三 ,  竹内宏介 ,  栗田裕 ,  内山平二

IPC分类号： C01B25/238 ,  C01B25/20

CPC分类号： C01B25/18 ,  C01B25/234

摘要： 本发明涉及一种高纯度磷酸，其特征在于，将H3PO4的浓度换算为85重量％时，杂质含量为，Sb在200ppb以下，且二价硫离子在200ppb以下。本发明的高纯度磷酸作为具有氮化硅膜的半导体元件的蚀刻液、具有氧化铝膜的液晶显示器的蚀刻液、金属铝蚀刻液、陶瓷用氧化铝蚀刻液、光纤玻璃用磷酸玻璃原料、食品添加剂等有很好的效果。

公开(公告)号：CN100340474C

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200480001599.5

申请日：2004-06-28

申请人： 日本化学工业株式会社

发明人： 石川贤一 ,  横井敬三 ,  竹内宏介 ,  栗田裕 ,  内山平二

IPC分类号： C01B25/238 ,  C01B25/20

CPC分类号： C01B25/18 ,  C01B25/234

摘要： 本发明涉及一种高纯度磷酸，其特征在于，将H3PO4的浓度换算为85重量%时，杂质含量为，Sb在200ppb以下，且二价硫离子在200ppb以下。本发明的高纯度磷酸作为具有氮化硅膜的半导体元件的蚀刻液、具有氧化铝膜的液晶显示器的蚀刻液、金属铝蚀刻液、陶瓷用氧化铝蚀刻液、光纤玻璃用磷酸玻璃原料、食品添加剂等有很好的效果。