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公开(公告)号：CN101784575B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200880104177.9
申请日：2008-08-29
申请人： 日本曹达株式会社
IPC分类号： C08F297/02
CPC分类号： C08F297/02 , C08F220/18 , C08F297/026 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中，在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下，使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应，由此制造聚合物而形成核部后，从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部，其中，相对于该式(IV)的化合物1摩尔，有机碱金属化合物为0.1～0.99摩尔，相对于该有机碱金属化合物1摩尔，碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1～20摩尔。(式中，R表示氢原子等，n表示2或3，A表示用碳原子进行键合的有机基团)。(式中，R1表示氢原子等，R2表示有机基团)。
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公开(公告)号：CN101784575A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880104177.9
申请日：2008-08-29
申请人： 日本曹达株式会社
IPC分类号： C08F297/02
CPC分类号： C08F297/02 , C08F220/18 , C08F297/026 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F222/1006
摘要： 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中，在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下，使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应，由此制造聚合物而形成核部后，从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部，其中，相对于该式(IV)的化合物1摩尔，有机碱金属化合物为0.1～0.99摩尔，相对于该有机碱金属化合物1摩尔，碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1～20摩尔。(式中，R表示氢原子等，n表示2或3，A表示用碳原子进行键合的有机基团。)(式中，R1表示氢原子等，R2表示有机基团。)。
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公开(公告)号：CN102471410B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201080033928.X
申请日：2010-08-04
申请人： 日本曹达株式会社
IPC分类号： C08F212/14 , C08F220/10 , C08F297/00
CPC分类号： C08F297/02 , C08F2/06 , C08F4/48 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F220/18
摘要： 本发明的课题在于提供作为芯片层叠用粘接剂等密合性等特性令人满意的几种固化物用的共聚物。本发明为(1)一种共聚物，其特征在于，含有式(I)、式(II)和式(III)(式中，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或者甲基，R4表示烷基或者环烷基，R5表示氢原子或者C1～C6的烷基，m、n、k表示各重复单元的摩尔比例，m表示0以上且小于1的正数，n和k各自独立地表示正数，满足m+n+k＝1的关系。)表示的重复单元，其重均分子量在50000～200000的范围。
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公开(公告)号：CN102471410A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080033928.X
申请日：2010-08-04
申请人： 日本曹达株式会社
IPC分类号： C08F212/14 , C08F220/10 , C08F297/00
CPC分类号： C08F297/02 , C08F2/06 , C08F4/48 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F220/18
摘要： 本发明的课题在于提供作为芯片层叠用粘接剂等密合性等特性令人满意的几种固化物用的共聚物。本发明为(1)一种共聚物，其特征在于，含有式(I)、式(II)和式(III)(式中，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或者甲基，R4表示烷基或者环烷基，R5表示氢原子或者C1～C6的烷基，m、n、k表示各重复单元的摩尔比例，m表示0以上且小于1的正数，n和k各自独立地表示正数，满足m+n+k＝1的关系。)表示的重复单元，其重均分子量在50000～200000的范围。
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