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公开(公告)号：CN114391014A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202080063311.6
申请日：2020-09-23
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D409/04 , A01N43/58 , A01P13/00
Abstract: 本发明涉及一种式(I)表示的化合物或其盐、以及含有选自它们中的至少一种作为有效成分的除草剂。式(I)中，R1表示取代或无取代C1～6烷基等，R2表示H、取代或无取代C1～6烷基等，R3表示H、取代或无取代C1～6烷基等，R4表示卤素基团、取代或无取代C1～6烷基等，R5表示氢原子或卤素基团，R6表示H或卤素基团，A表示取代或无取代C1～4亚烷基、取代或无取代C2～3亚烯基或取代或无取代C1～2亚烷氧基C1～2亚烷基，X1表示O或磺酰基，X2表示氧原子、硫基等，m表示0或1，n表示0或1，且m+n＝1或2，且A为取代或无取代亚甲基时，m+n＝2。
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公开(公告)号：CN116981671A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202280020596.4
申请日：2022-03-10
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D491/044
Abstract: 本发明涉及式(I)表示的化合物或其盐。以及含有选自它们中的至少一个作为有效成分的除草剂。式(I)中，R1表示取代或无取代的C1～6烷基等，R2表示取代或无取代的C1～6烷基等，R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基等，且Q表示取代或无取代的5～10元杂环基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116867373A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202280015840.8
申请日：2022-03-18
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 温贝托米蒂奥·赫里科实 , 加登一成 , 池田庸二
IPC: A01N43/90
Abstract: 本发明提供一种除草性组合物，其含有选自式(I)(式中，R1表示取代或无取代的C1～6烷基等，R2表示取代或无取代的C1～6烷基等，R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基等，并且Q表示取代或无取代的苯基等)表示的化合物或其盐中的至少1个化合物(I)、以及甲基合氯氟(Haloxyfop‑methyl)、烯草酮(Clethodim)、精异丙甲草胺(S‑Metolachlor)、氟嘧草啶(Epyrifenacil)、异#imgabs0#唑草酮(Isoxaflutole)、烯禾啶(Sethoxydim)、吡喃草酮(Tepraloxydim)等具有除草活性的化合物(II)。#imgabs1#
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公开(公告)号：CN112272518B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201980031555.3
申请日：2019-05-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及通过在结缕草、小麦、玉米、油菜籽、水稻、大豆等有益植物的栽培时施用含有四唑吡氨酯和除草活性成分的药害减轻组合物、或者在施用除草活性成分的同时施用四唑吡氨酯来减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法。
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公开(公告)号：CN114375292A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202080063624.1
申请日：2020-09-23
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D491/044 , C07D519/00 , A01N43/90 , A01P13/00
Abstract: 本发明涉及式(I)表示的化合物或其盐、以及含有选自它们中的至少一者作为有效成分的除草剂。在式(I)中，R1表示取代或无取代的C1～6烷基等，R2表示取代或无取代的C1～6烷基等，R3表示氢原子、取代或无取代的C1～6烷基等，并且Q表示取代或无取代的苯基等。
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公开(公告)号：CN112272518A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201980031555.3
申请日：2019-05-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及通过在结缕草、小麦、玉米、油菜籽、水稻、大豆等有益植物的栽培时施用含有四唑吡氨酯和除草活性成分的药害减轻组合物、或者在施用除草活性成分的同时施用四唑吡氨酯来减轻除草活性成分所致的对有益植物的伤害并防除杂草的方法。
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