公开(公告)号：CN103517961B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201280022509.5

申请日：2012-05-09

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 长谷川一希

IPC: C09K3/00 ,  B32B27/00 ,  B32B27/36 ,  B44C1/17 ,  C08L47/00 ,  C08L67/00

CPC classification number: C09J7/401 ,  C08K5/42 ,  C08L47/00 ,  C08L67/08 ,  C09J2467/005

Abstract: 本发明涉及一种含有氨基醇酸树脂、具有2个以上羟基的烃类聚合物和酸的脱模剂用组合物，及具有使用该组合物形成的脱模层的转印箔。

公开(公告)号：CN104334348B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201380027996.9

申请日：2013-05-31

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 长谷川一希

IPC: B32B27/34 ,  B32B27/00 ,  B32B27/16

CPC classification number: B44C1/17

Abstract: 本发明提供一种转印箔，其特征在于，是在基材上依次层叠有转印层、中间层和功能层的转印箔，上述中间层含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。

公开(公告)号：CN101547947A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200780044585.5

申请日：2007-12-04

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 木村信夫 ,  芝田大干 ,  长谷川一希

IPC: C08F283/12 ,  C08F2/44 ,  C08L51/08

CPC classification number: C08F2/44 ,  C08G77/20 ,  C08J3/28 ,  C08K2003/2241 ,  C09D183/04 ,  C08K5/0025 ,  C08L33/06

Abstract: 本发明提供表面具有非常高的硬度同时内部以及背面侧具有适度的硬度、且与基体的密合性优异的有机无机复合物。所述有机无机复合物的特征在于，以a)用式(I)：RnSiX4－n(式中，R表示碳原子直接与Si结合的有机基团，X表示羟基或者水解性基团。n表示1或者2，在n为2时，各R可以相同或不同，(4－n)为2以上时，各X可以相同或不同。)表示的有机硅化合物的缩合物为主成分，还含有b)从金属螯合物、金属有机酸盐化合物、具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物中选择的至少1种对350nm以下的波长的光敏感的感光性化合物、和/或由其衍生的化合物，和c)紫外线固化性化合物的固化物。

公开(公告)号：CN101120055B

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN200680005174.0

申请日：2006-02-16

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 木村信夫 ,  芝田大干 ,  长谷川一希

IPC: C08L83/04 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/14 ,  C08K3/22 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06

Abstract: 本发明提供表面具有非常高硬度的同时，内部及背面侧具有适当硬度，并且与基体的密接性优良的有机无机复合体。该有机无机复合体的特征在于：以式(I)：RnSiX4-n(式中，R表示碳原子直接键合于式中Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2)所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少1种感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。

公开(公告)号：CN101120055A

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200680005174.0

申请日：2006-02-16

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 木村信夫 ,  芝田大干 ,  长谷川一希

IPC: C08L83/04 ,  C09D183/04

CPC classification number: C09D183/14 ,  C08K3/22 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06

Abstract: 本发明提供表面具有非常高硬度的同时，内部及背面侧具有适当硬度，并且与基体的密接性优良的有机无机复合体。该有机无机复合体的特征在于：以式(I)：RnSiX4－n(式中，R表示碳原子直接键合于式中Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2)所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少1种感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。

公开(公告)号：CN104334348A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201380027996.9

申请日：2013-05-31

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 长谷川一希

IPC: B32B27/34 ,  B32B27/00 ,  B32B27/16

CPC classification number: B44C1/17 ,  B32B27/00 ,  B32B27/16 ,  B32B27/34

Abstract: 本发明提供一种转印箔，其特征在于，是在基材上依次层叠有转印层、中间层和功能层的转印箔，上述中间层含有具有酰胺键的树脂和氨基树脂。

公开(公告)号：CN103517961A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201280022509.5

申请日：2012-05-09

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 长谷川一希

IPC: C09K3/00 ,  B32B27/00 ,  B32B27/36 ,  B44C1/17 ,  C08L47/00 ,  C08L67/00

CPC classification number: C09J7/401 ,  C08K5/42 ,  C08L47/00 ,  C08L67/08 ,  C09J2467/005

Abstract: 本发明涉及一种含有氨基醇酸树脂、具有2个以上羟基的烃类聚合物和酸的脱模剂用组合物，及具有使用该组合物形成的脱模层的转印箔。

公开(公告)号：CN101547947B

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN200780044585.5

申请日：2007-12-04

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 木村信夫 ,  芝田大干 ,  长谷川一希

IPC: C08F283/12 ,  C08F2/44 ,  C08L51/08

CPC classification number: C08F2/44 ,  C08G77/20 ,  C08J3/28 ,  C08K2003/2241 ,  C09D183/04 ,  C08K5/0025 ,  C08L33/06

Abstract: 本发明提供表面具有非常高的硬度同时内部以及背面侧具有适度的硬度、且与基体的密合性优异的有机无机复合物。所述有机无机复合物的特征在于，以a)用式(I)：RnSiX4-n(式中，R表示碳原子直接与Si结合的有机基团，X表示羟基或者水解性基团。n表示1或者2，在n为2时，各R可以相同或不同，(4-n)为2以上时，各X可以相同或不同。)表示的有机硅化合物的缩合物为主成分，还含有b)从金属螯合物、金属有机酸盐化合物、具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物中选择的至少1种对350nm以下的波长的光敏感的感光性化合物、和/或由其衍生的化合物，和c)紫外线固化性化合物的固化物。

公开(公告)号：CN101702891A

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200880020566.3

申请日：2008-07-03

Applicant: 日本曹达株式会社

Inventor： 木村信夫 ,  芝田大干 ,  长谷川一希

IPC: B32B27/26 ,  B05D1/28 ,  C09D4/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09J7/02 ,  G02B1/10 ,  C08J7/04

CPC classification number: C08J7/047 ,  B29C45/14827 ,  C08J2483/00 ,  G02B1/10 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明的课题在于提供用于形成在半固化状态下保存性和对模具的追随性优异、完全固化后耐擦伤性优异的硬涂层的成型用片，具有硬涂层的成型体及其制造方法。本发明涉及用于形成硬涂层的成型用片以及使用了其的成型体，所述用于形成硬涂层的成型用片的特征在于，在基材上具有由含有a)式(I)所示的有机硅化合物和/或其缩合物、b)紫外线固化性化合物以及c)硅烷醇缩合催化剂的组合物的半固化物形成的层。RnSiX4-n(I)(式中，R表示碳原子与式中的Si直接键合的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2，n为2时，R可以相同或不同，(4-n)为2以上时，X可以相同或不同。)