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公开(公告)号：CN104093560B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201380007697.9
申请日：2013-01-25
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J7/18 , C08J2483/00
Abstract: 本发明的薄膜层叠体特征在于，在树脂基体上以第1层、第2层的顺序依次形成的薄膜层叠体中，第1层是有机无机复合薄膜，膜厚为500nm以上，其含有a)RnSiX4－n表示的有机硅化合物的缩合物及b)有机高分子化合物；第2层是下述a)金属氧化物薄膜或b)气体阻隔膜：a)金属氧化物薄膜，其利用溶胶凝胶法形成，膜厚为200nm以下，并且，以式{膜厚的偏差[％]＝100×(膜厚的标准偏差)/(膜厚的平均值)}表示的膜厚的偏差小于10％，b)气体阻隔膜，膜厚为500nm以下；并且，第1层在与第2层的界面侧具有上述有机硅化合物的缩合物浓缩而成的层，该浓缩层的碳原子的浓度与距第1层与第2层的界面深300nm处的第1层的碳原子的浓度相比少20％以上。
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公开(公告)号：CN104380150B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380032030.4
申请日：2013-07-01
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/11
Abstract: 本发明提供在有机无机复合薄膜表面上层叠像透明导电性膜或气体阻隔性的薄膜这种具有高折射率且光的透射率低的无机薄膜时不仅呈现高透射率，而且与无机薄膜的密合性也优异的功能性防反射膜。本发明的功能性防反射层叠体是在树脂基体上依次形成了第1层、第2层的薄膜层叠体，其特征在于，第1层是含有a)式(I)RnSiX4－n(I)表示的有机硅化合物的缩合物和b)有机高分子化合物的、膜厚为500nm以上的有机无机复合薄膜，第2层是膜厚为10～300nm的透明导电性膜或气体阻隔膜，第2层的表面形成了高度为40～500nm、间距为50～400nm的微细凸凹结构，该功能性防反射层叠体在波长500～700nm的入射角12°的表面正反射率为3％以下。
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公开(公告)号：CN104114622A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201280069083.9
申请日：2012-07-10
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J7/18 , C08J2483/00
Abstract: 本发明的课题在于：对表面具有比内部高的硬度的由聚硅氧烷系的有机无机复合体构成的膜的表面进一步进行无机质化。本发明的有机无机复合薄膜为具有含有a)式(I)所示的有机硅化合物的缩合物和b)有机高分子化合物的层的有机无机复合薄膜，在该膜的表面形成式(I)所示的有机硅化合物的缩合物浓缩而成的层，距离表面10nm的深度的碳原子的浓度与距离表面100nm的深度的碳原子的浓度相比，少20％以上，并且，距离膜的表面2nm的深度的O/Si元素比为18～2.5。RnSiX4-n (I)(式中，R表示碳原子与Si直接结合的有机基，X表示羟基或水解性基。n表示1或2，n为2时，各R相同或不同，(4-n)为2以上时，各X相同或不同)。
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公开(公告)号：CN108367267A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680075015.1
申请日：2016-12-19
Abstract: 本发明提供一种吸附速度和吸附效率高于传统品的由羟基氧化铁构成的吸附材料。本发明的吸附材料粒子以羟基氧化铁为主成分，粒子的体积的90％以上由晶体粒径为20nm以下的粒状晶体、或宽度为10nm以下且长度为30nm以下的柱状晶体构成，BET比表面积为250m2/g以上。通过具有向选自由FeX3(这里X表示OH以外的1价的原子或原子团)表示的3价的铁化合物中的至少1种的溶液中一边将pH调节为3～6，一边添加由YOH(这里Y表示1价的原子或原子团)表示的碱，由此生成羟基氧化铁的工序，在上述工序结束时使FeX3、YOH和其他电解质的总和的浓度为10质量％以上，由此制造上述吸附材料粒子。
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公开(公告)号：CN1988965B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200580024192.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: B05D7/24 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2217/76
Abstract: 本发明提供有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是将由具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(1)和在有机溶剂中能与所述金属类表面活性剂(1)相互作用的化合物得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(2)混合而得到的，该方法的特征为，含水量被调整或保持在规定量范围内；还提供有机薄膜形成方法，其通过使将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂和能与所述表面活性剂相互作用的催化剂混合而得到的有机溶剂溶液与基板接触，而在所述基板表面形成有机薄膜，该方法的特征为，所述有机溶剂溶液含有规定量的水分，并且含有20～2000ppm的作为所述金属类表面活性剂的水解产物的含羟基化合物；用于有机薄膜形成方法的有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100436325C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN02815253.0
申请日：2002-08-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/0091 , C08F291/00 , C08G18/3876 , C08G18/775 , C08L51/003 , C08L51/10 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种具有金属-氧键的分散成分，它是在酸、碱和/或分散体稳定剂不存在下，在有机溶剂中利用0.5mol至低于1mol的水/mol金属醇盐或在-20℃或-20℃以下利用1.0至低于2.0mol的水/mol金属醇盐来水解金属醇盐而生产。在有机溶剂中，该分散成分稳定地分散但不会聚集。分散成分的使用使得可以在低至200℃或200℃以下的温度下生产出薄金属氧化物膜和均匀的有机/无机复合物。
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公开(公告)号：CN1988965A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200580024192.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: B05D7/24 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2217/76
Abstract: 本发明提供有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是将由具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(1)和在有机溶剂中能与所述金属类表面活性剂(1)相互作用的化合物得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(2)混合而得到的，该方法的特征为，含水量被调整或保持在规定量范围内；还提供有机薄膜形成方法，其通过使将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂和能与所述表面活性剂相互作用的催化剂混合而得到的有机溶剂溶液与基板接触，而在所述基板表面形成有机薄膜，该方法的特征为，所述有机溶剂溶液含有规定量的水分，并且含有20～2000ppm的作为所述金属类表面活性剂的水解产物的含羟基化合物；用于有机薄膜形成方法的有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液。
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公开(公告)号：CN1774305A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200480009940.1
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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公开(公告)号：CN1188428A
公开(公告)日：1998-07-22
申请号：CN96194871.X
申请日：1996-06-18
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: B01J35/02
CPC classification number: B01J37/036 , B01J35/002 , B01J35/004 , B01J37/0219 , B01J37/0225 , C03C17/42 , C03C2217/445 , C03C2217/45 , C03C2217/477 , C03C2217/478 , C03C2217/71 , Y10T428/256 , Y10T428/257 , Y10T428/258 , Y10T428/259 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663 , Y10T428/31667
Abstract: 一种载有光催化剂的结构,它包含光催化剂层、基底和位于光催化剂层和基底之间的胶粘剂层,其中的胶粘剂层由硅改性树脂、含聚硅氧烷的树脂或含胶体二氧化硅的树脂制成,光催化剂层由金属氧化物凝胶或氢氧化物凝胶和光催化剂构成;用于形成上述结构的光催化剂涂料包含硅混合物、至少一种金属氧化物溶胶或氢氧化物溶胶和至少一种光催化剂的粉末或溶胶。
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公开(公告)号：CN110770175B
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN201880038566.X
申请日：2018-06-11
Abstract: 本发明的课题在于提供使用吸附材料将磷酸根离子等直接被排放至环境中时对环境造成不良影响的阴离子、或可通过进行回收来有益地利用的阴离子从含有它们的废水、溶液中选择性地高效吸附的方法。使用阴离子吸附材料从含有目标阴离子及其他阴离子的水溶液(A)中吸附目标阴离子的方法，其特征在于，至少实施下述两道工序：工序(1)，使pH5.8以下的前述水溶液(A)与前述阴离子吸附材料接触，从而吸附阴离子；以及随后的工序(2)，使pH5.2～11的水或水溶液(B)与前述阴离子吸附材料接触，从而使已被吸附于前述阴离子吸附材料的前述其他阴离子的至少一部分从前述阴离子吸附材料脱附。
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