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公开(公告)号:CN108735565A
公开(公告)日:2018-11-02
申请号:CN201810237376.2
申请日:2018-03-22
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/08 , H01J37/28 , H01J37/305
Abstract: 提供一种离子束装置,能够减轻对试样造成的损伤,并且在短时间内切换观察和加工。本发明所涉及的离子束装置切换照射将H3+离子包含得最多的离子束的动作模式和照射将比H3+重的离子包含得最多的离子束的动作模式。
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公开(公告)号:CN108735565B
公开(公告)日:2020-09-25
申请号:CN201810237376.2
申请日:2018-03-22
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
IPC: H01J37/08 , H01J37/28 , H01J37/305
Abstract: 提供一种离子束装置,能够减轻对试样造成的损伤,并且在短时间内切换观察和加工。本发明所涉及的离子束装置切换照射将H3+离子包含得最多的离子束的动作模式和照射将比H3+重的离子包含得最多的离子束的动作模式。
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