-
公开(公告)号：CN107427782A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680011593.9
申请日：2016-03-22
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 沸石膜结构体(10)包括多孔质支撑体(20)和沸石膜(30)。沸石膜(30)具有：第一沸石层(31)，该第一沸石层(31)配置于多孔质支撑体(20)的表面(23S)的内侧；和第二沸石层(32)，该第二沸石层(32)配置于多孔质支撑体(20)的表面(23S)的外侧，且与第一沸石层(31)一体形成。多孔质支撑体(20)具有配置第一沸石层(31)的最表层(23a)。第一沸石层(31)的平均厚度为5.4μm以下。最表层(23a)的平均细孔径为0.050μm～0.150μm。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104661732B
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：CN201380050062.7
申请日：2013-09-19
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D65/003 , B01D65/102 , B01D65/104 , B01D65/106 , B01D69/02 , B01D71/021 , B01D71/027 , B01D71/028 , B01D2325/24 , B29C73/02 , B29C73/06 , B29K2079/08 , B29K2995/0068 , B29L2031/14 , G01M3/3254 , G01M3/34 , G01N15/08
Abstract: 提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的修补方法、经过修补的一体型分离膜结构体。从孔单元(4)外对每个孔单元(4)用气体加压，测定气体渗透孔单元(4)内的渗透量，渗透量多于(所有孔单元的渗透量平均值+A)(其中A为σ～6σ的规定值、σ为标准偏差)的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。或者，对每个孔单元(4)减压，测定孔单元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔单元的真空度平均值+A)低的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。然后，向一体型分离膜结构体(1)的缺陷孔单元(4)内注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔单元(4)。或者，将预成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔单元(4)，堵住缺陷孔单元(4)。
-
公开(公告)号：CN107427782B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201680011593.9
申请日：2016-03-22
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 沸石膜结构体(10)包括多孔质支撑体(20)和沸石膜(30)。沸石膜(30)具有：第一沸石层(31)，该第一沸石层(31)配置于多孔质支撑体(20)的表面(23S)的内侧；和第二沸石层(32)，该第二沸石层(32)配置于多孔质支撑体(20)的表面(23S)的外侧，且与第一沸石层(31)一体形成。多孔质支撑体(20)具有配置第一沸石层(31)的最表层(23a)。第一沸石层(31)的平均厚度为5.4μm以下。最表层(23a)的平均细孔径为0.050μm～0.150μm。
-
公开(公告)号：CN104661732A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201380050062.7
申请日：2013-09-19
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D65/003 , B01D65/102 , B01D65/104 , B01D65/106 , B01D69/02 , B01D71/021 , B01D71/027 , B01D71/028 , B01D2325/24 , B29C73/02 , B29C73/06 , B29K2079/08 , B29K2995/0068 , B29L2031/14 , G01M3/3254 , G01M3/34 , G01N15/08
Abstract: 提供检测孔单元上形成有分离膜的一体型分离膜结构体缺陷的简易的缺陷检测方法。此外，提供修补具有缺陷孔单元的一体型分离膜结构体的修补方法、经过修补的一体型分离膜结构体。从孔单元(4)外对每个孔单元(4)用气体加压，测定气体渗透孔单元(4)内的渗透量，渗透量多于(所有孔单元的渗透量平均值+A)(其中A为σ～6σ的规定值、σ为标准偏差)的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。或者，对每个孔单元(4)减压，测定孔单元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔单元的真空度平均值+A)低的孔单元(4)判断为有缺陷的孔单元。然后，向一体型分离膜结构体(1)的缺陷孔单元(4)内注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔单元(4)。或者，将预成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔单元(4)，堵住缺陷孔单元(4)。
-
公开(公告)号：CN104755155B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201380057371.7
申请日：2013-11-01
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01J29/90 , B01D63/066 , B01D65/02 , B01D69/12 , B01D71/025 , B01D71/028 , B01D2321/32 , B01D2325/12 , B01J29/70 , B01J35/002 , B01J35/04 , B01J35/065 , B01J38/02 , B01J2229/40 , B01J2229/64 , C01B39/48
Abstract: 提供一种使暴露于水中后的沸石膜再生的、简易的沸石膜的再生方法。沸石膜的再生方法是在陶瓷多孔体上成膜、进行结构导向剂的去除处理的沸石膜的再生方法。该方法中，在陶瓷多孔质体与沸石膜的热膨胀量的比例之差，以40℃为基准时为0.3％以下的温度的再生温度下进行加热。再生温度优选不超过沸石膜成膜时使用的结构导向剂的氧化热分解温度的温度。
-
公开(公告)号：CN104755155A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201380057371.7
申请日：2013-11-01
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01J29/90 , B01D63/066 , B01D65/02 , B01D69/12 , B01D71/025 , B01D71/028 , B01D2321/32 , B01D2325/12 , B01J29/70 , B01J35/002 , B01J35/04 , B01J35/065 , B01J38/02 , B01J2229/40 , B01J2229/64 , C01B39/48
Abstract: 提供一种使暴露于水中后的沸石膜再生的、简易的沸石膜的再生方法。沸石膜的再生方法是在陶瓷多孔体上成膜、进行结构导向剂的去除处理的沸石膜的再生方法。该方法中，在陶瓷多孔质体与沸石膜的热膨胀量的比例之差，以40℃为基准时为0.3％以下的温度的再生温度下进行加热。再生温度优选不超过沸石膜成膜时使用的结构导向剂的氧化热分解温度的温度。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.017 seconds)
