热处理炉
    1.
    发明公开
    热处理炉 审中-实审

    公开(公告)号:CN118836680A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410454827.3

    申请日:2024-04-16

    Abstract: 本发明涉及一种热处理炉,其抑制在沿上下方向堆叠的多个被处理物内产生上下方向上的加热不均。热处理炉具备:炉体,该炉体具备输入口、输出口、以及具有对被处理物进行热处理的升温空间和保持空间的热处理空间;输送板,多个所述被处理物能够以沿上下方向堆叠的状态载放于该输送板;推杆,该推杆从所述炉体的所述输入口朝向所述输出口而将所述输送板向前方推压;以及多个加热器,该多个加热器沿所述上下方向延伸,在所述热处理空间内沿所述前方并排配置。所述多个加热器分别具备发热的发热部。所述多个加热器的所述发热部在所述上下方向上的位置从最靠近所述输入口侧的所述加热器朝向最靠近所述输出口侧的所述加热器而发生变化。

    热处理炉和滑动单元
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118687386A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202410305629.0

    申请日:2024-03-18

    Abstract: 本发明公开一种能够使上板部件容易在下板部件上移动的技术。热处理炉具备:炉体,其具有输入口和输出口;下板部件,其配置于炉体的内部;上板部件,其配置于下板部件上,能够以多个被处理物沿上下方向堆叠的状态载放多个被处理物;中间部件,其在上下方向上夹于下板部件与上板部件之间,且安装于下板部件;以及推杆,其从输入口朝向输出口而向前方推压上板部件。上板部件在下板部件上向前方移动。作用于上板部件与中间部件之间的滑动阻力小于作用于上板部件与下板部件之间的滑动阻力。

    热处理炉
    3.
    发明公开
    热处理炉 审中-实审

    公开(公告)号:CN119554862A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202410697544.1

    申请日:2024-05-31

    Abstract: 本发明提供一种热处理炉,可抑制气氛气体滞留于炉体内。热处理炉具备:炉体,其具备输入口、输出口及对多个被处理物进行热处理的热处理空间;多个被输送部,它们能以多个被处理物在左右方向上具有间隙地并排的状态载放多个被处理物,且在向前方向上并排配置;推杆,其在向前方向上推压被输送部;以及多个进气管,它们具有向热处理空间内供给气氛气体的进气口且在左右方向并排配置。被输送部配置于在左右方向相邻的进气管之间。进气管的进气口配置成向被处理物供给气氛气体。热处理炉具有将热处理空间内的气氛气体排出到炉体的外部的多个排气口。在沿向前方向观察炉体时,排气口配置于在被输送部上在左右方向上并排的多个被处理物的间隙的正上方。

    辊底炉
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212362814U

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN202020593814.1

    申请日:2020-04-20

    Abstract: 本实用新型提供一种辊底炉(1),进行被处理物的热处理,辊底炉(1)具备炉体(2)、对被处理物进行搬运的搬运单元(3)、配置于炉体内部的加热单元(4)、检测炉体内部的温度的温度检测单元(5)以及控制炉体内部的温度的温度控制单元(8),所述炉体包含升温区域(21)和烧成温度区域(22),炉体内部通过上部分隔壁(25)和/或下部分隔壁(26)而被分割为多个腔,在各个所述腔,与其他腔相独立地设置有温度检测单元以及温度控制单元,升温区域是利用2个以上的所述腔构成的,使得能将升温区域的温度梯度设定为多级。由此,能配合烧成条件的需要来灵活地设定升温区域的温度梯度。

    热处理炉
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113544452A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202080001224.8

    申请日:2020-02-17

    Abstract: 本说明书公开一种热处理炉,其能够对在由多个导向辊规定的输送路径上进行输送的被处理物有效地进行热处理。该热处理炉具备:炉体;输送装置,其将被处理物从输入口经过处理室而向输出口输送;多个导向辊,它们配置于处理室内;以及加热装置,其配置于处理室内,用于对被处理物进行加热。加热装置具备第一加热器,该第一加热器针对多个导向辊而分别配置于该导向辊的内部和/或该导向辊的附近,用于对被处理物进行加热。加热装置还具备第二加热器,该第二加热器在被处理物的输送路径上、且是在输送方向上相邻的导向辊的中间位置的附近对被处理物进行加热。第二加热器为放射出红外区域的电磁波的加热器。

    热处理炉
    6.
    发明公开
    热处理炉 审中-实审

    公开(公告)号:CN114076511A

    公开(公告)日:2022-02-22

    申请号:CN202010960892.5

    申请日:2020-09-14

    Abstract: 本发明提供一种热处理炉,其能够提高从薄膜体中除去水分的效率。该热处理炉具备:炉体、输送装置、多个导向辊、加热装置、供气装置、以及排气装置。输送装置将从输入口架设到输出口的被处理物亦即薄膜体从输入口经过处理室而向输出口输送。多个导向辊用于对通过输送装置而被输送的被处理物进行引导。炉体具备:位于薄膜体的表面侧位置的第一壁(14)、以及位于薄膜体的背面侧位置而与第一壁相对置的第二壁(13)。排气装置具备:设置于第一壁且对处理室内的气体予以排出的1个或多个第一排气口(50a~50g)、以及设置于第二壁且对处理室内的气体予以排出的1个或多个第二排气口(56a~56f)。

    红外线加热器、固定构造及干燥炉

    公开(公告)号:CN115707157A

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN202110924571.4

    申请日:2021-08-12

    Abstract: 本发明涉及红外线加热器、固定构造、干燥炉。红外线加热器具备被加热时辐射红外线的发热体、将发热体收容于内部并与发热体一起构成发热单元的内管、将发热单元装卸自如地收容于内部的外管,内管及外管是作为吸收6μm以上波长的红外线的低通滤波器发挥功能的绝缘性无机材料管,外管具有设有供插入发热单元的插入口的第一端部,发热单元具有配置于第一端部侧并安装有向发热体供电的电源供给部的第三端部,内管具有配置于第三端部侧并具有比内管的外径大的直径的第一凸缘部,外管的插入口具有在发热单元收容于外管的内部的状态下与第一凸缘部抵接的第二凸缘部,内管与外管之间形成有供冷却流体流通的空间,在外管具备流体供给口和流体排出口。

    红外线加热器和红外线处理装置

    公开(公告)号:CN105657872B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201510846358.0

    申请日:2015-11-27

    Abstract: 一种红外线加热器和红外线处理装置。红外线加热器(10)具备:被加热时放射红外线并能吸收规定反射波长区域的红外线的发热体(40),和与发热体(40)隔着向外部空间开放的第1空间(47)而配设的过滤器部(50)。过滤器部(50)具备:透过来自发热体(40)的红外线中的至少一部分的1层以上的透过层(第1透过层51),和向发热体(40)反射反射波长区域的红外线的反射部(第1透过层51)。

    热处理系统
    9.
    发明公开
    热处理系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN119983823A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202410688070.4

    申请日:2024-05-30

    Abstract: 本发明公开一种能够增加热处理系统中的匣钵的处理量的技术。热处理系统具备:热处理炉、返回线、以及处理部。所述返回线具备:第一处理线;第二处理线,其与所述第一处理线并联配置;入口线,其与所述第一处理线和所述第二处理线连接,且配置成比所述第一处理线和所述第二处理线靠所述返回线的上游;以及出口线,其与所述第一处理线和所述第二处理线连接,且配置成比所述第一处理线和所述第二处理线靠所述返回线的下游。所述处理部具备:对所述第一处理线上的所述匣钵进行处理的第一处理装置、以及对所述第二处理线上的所述匣钵进行处理的第二处理装置。

    匣钵
    10.
    发明公开
    匣钵 审中-实审

    公开(公告)号:CN119713864A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202410759721.4

    申请日:2024-06-13

    Abstract: 本发明提供一种对锂正极材料的粉体效率良好地进行热处理的技术。匣钵具备箱状的陶瓷部和箱状的金属部。陶瓷部具备外底面部及自外底面部向上方突出的外侧壁部。金属部具备内底面部及自内底面部向上方突出的内侧壁部,且以能够装卸的方式配置于陶瓷部的内部。在常温状态下,金属部配置于陶瓷部的内部时,在外侧壁部与内侧壁部之间形成有余隙。外侧壁部至少具备从上端向下端凹陷的一对凹部。在俯视观察金属部时,一对凹部设置于夹着金属部的中心而对置的位置。金属部至少具备从内侧壁部的上端向外侧延伸的一对凸缘部。在金属部配置于陶瓷部的内部时,一对凸缘部位于一对凹部内。

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