公开(公告)号：CN101885959A

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN201010238216.3

申请日：2004-09-09

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 茅根环司 ,  宫冈清二

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C01F17/0043 ,  C01F17/005 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供铈系研磨剂，其为将含有氧化铈的粒子的组合物分散于水中而得到的铈系研磨剂，其特征是，在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度的质量比是10ppm以下。另外，通过减少在氧化铈粒子及其原料铈盐粒子中含有的杂质数量而提高纯度，在使用含该氧化铈粒子的铈系研磨剂进行研磨时，可以减少被研磨面上产生的擦痕。

公开(公告)号：CN101885959B

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN201010238216.3

申请日：2004-09-09

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 茅根环司 ,  宫冈清二

IPC: H01L21/302

CPC classification number: C09G1/02 ,  C01F17/0043 ,  C01F17/005 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供铈系研磨剂，其为将含有氧化铈的粒子的组合物分散于水中而得到的铈系研磨剂，其特征是，在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度的质量比是10ppm以下。另外，通过减少在氧化铈粒子及其原料铈盐粒子中含有的杂质数量而提高纯度，在使用含该氧化铈粒子的铈系研磨剂进行研磨时，可以减少被研磨面上产生的擦痕。

公开(公告)号：CN1849264B

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：CN200480025777.8

申请日：2004-09-09

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 茅根环司 ,  宫冈清二

IPC: C01F17/00 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  C01F17/0043 ,  C01F17/005 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供了在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度与溶解前的铈盐的质量比为5ppm以下的铈盐，以及将该铈盐进行高温处理后的氧化铈。另外，通过减少在氧化铈粒子及其原料铈盐粒子中含有的杂质数量而提高纯度，在使用含该氧化铈粒子的铈系研磨剂进行研磨时，可以减少被研磨面上产生的擦痕。

公开(公告)号：CN1849264A

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN200480025777.8

申请日：2004-09-09

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 茅根环司 ,  宫冈清二

IPC: C01F17/00 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  C01F17/0043 ,  C01F17/005 ,  C01P2004/61 ,  C01P2004/62 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供了在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度与溶解前的铈盐的质量比为5ppm以下的铈盐，以及将该铈盐进行高温处理后的氧化铈。另外，通过减少在氧化铈粒子及其原料铈盐粒子中含有的杂质数量而提高纯度，在使用含该氧化铈粒子的铈系研磨剂进行研磨时，可以减少被研磨面上产生的擦痕。