公开(公告)号：CN104204948A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380015589.6

申请日：2013-03-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 山口正利 ,  高崎俊彦 ,  杉本靖 ,  富山健男 ,  江尻贵子 ,  山本和德 ,  川口卓 ,  濑里泰洋 ,  佐藤真弓

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G06F3/041

CPC classification number: G06F3/041 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0755 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明公开了一种用于形成作为利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻时的掩模的抗蚀剂的感光性树脂组合物。该感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂以及(D)硅烷化合物，所述(B)光聚合性化合物包含(B1)具有不饱和基团和异氰脲酸环的化合物。