公开(公告)号：CN111108357B

公开(公告)日：2021-12-21

申请号：CN201880060942.5

申请日：2018-09-20

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 村上贵宣 ,  望月秀则 ,  平岛大树 ,  加藤静一 ,  小松和磨

IPC: G01L1/18 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00 ,  G01N5/02 ,  H01L29/84

Abstract: 本发明提供能够抑制测量精度的下降的、表面应力传感器和其制造方法。该表面应力传感器(1)具备：薄膜(22)，其在被施加的表面应力的作用下挠曲；框架构件(24)，从薄膜(22)的厚度方向观察时，该框架构件(24)与薄膜(22)空开间隙地包围薄膜(22)；至少一对连结部(26)，从薄膜(22)的厚度方向观察时，该一对连结部(26)配置于夹着薄膜(22)的位置，且将该薄膜(22)和框架构件(24)连结起来；挠性电阻(50)，其设于连结部(26)中的至少一个连结部(26)，该挠性电阻(50)的电阻值与在连结部(26)产生的挠曲相应地变化；以及支承基材(10)，其与框架构件(24)相连接，且从薄膜(22)的厚度方向观察时与框架构件(24)重叠，在薄膜(22)与支承基材(10)之间设有空隙部(40)。

公开(公告)号：CN111108357A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201880060942.5

申请日：2018-09-20

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 村上贵宣 ,  望月秀则 ,  平岛大树 ,  加藤静一 ,  小松和磨

IPC: G01L1/18 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00 ,  G01N5/02 ,  H01L29/84

Abstract: 本发明提供能够抑制测量精度的下降的、表面应力传感器和其制造方法。该表面应力传感器(1)具备：薄膜(22)，其在被施加的表面应力的作用下挠曲；框架构件(24)，从薄膜(22)的厚度方向观察时，该框架构件(24)与薄膜(22)空开间隙地包围薄膜(22)；至少一对连结部(26)，从薄膜(22)的厚度方向观察时，该一对连结部(26)配置于夹着薄膜(22)的位置，且将该薄膜(22)和框架构件(24)连结起来；挠性电阻(50)，其设于连结部(26)中的至少一个连结部(26)，该挠性电阻(50)的电阻值与在连结部(26)产生的挠曲相应地变化；以及支承基材(10)，其与框架构件(24)相连接，且从薄膜(22)的厚度方向观察时与框架构件(24)重叠，在薄膜(22)与支承基材(10)之间设有空隙部(40)。