公开(公告)号：CN103003055A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201180028829.7

申请日：2011-06-08

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 伊藤直人 ,  北田敏夫 ,  木口屋秀成

IPC: B29C59/04 ,  B29C33/38 ,  G03F7/20

CPC classification number: B29C33/3842 ,  B23K15/08 ,  B29C33/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/24 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/2025 ,  H01J2237/20271 ,  H01J2237/20285

Abstract: 本发明能够一边抑制成本增加一边抑制滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆引起描画图案变得不鲜明的情况。为了实现该目的，滚筒模具制作装置（1）包括：电子束照射装置（2）；掩模（3），该掩模具有使电子束的一部分透过的开口部，以形成同时在抗蚀剂上进行描画的多束电子束；使滚筒模具（100）绕旋转轴旋转的旋转驱动装置（4）；对滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移量进行检测位移量检测传感器（5）；控制装置（6）；以及致动器（7），该致动器（7）根据来自该控制装置（6）的控制信号使电子束的描画位置与滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的位移随动，抑制滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移所导致的抗蚀剂的曝光位置的偏差。

公开(公告)号：CN103003055B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201180028829.7

申请日：2011-06-08

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 伊藤直人 ,  北田敏夫 ,  木口屋秀成

IPC: B29C59/04 ,  B29C33/38 ,  G03F7/20

CPC classification number: B29C33/3842 ,  B23K15/08 ,  B29C33/38 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/24 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/2025 ,  H01J2237/20271 ,  H01J2237/20285

Abstract: 本发明能够一边抑制成本增加一边抑制滚筒模具的向旋转轴方向的旋转偏摆引起描画图案变得不鲜明的情况。为了实现该目的，滚筒模具制作装置（1）包括：电子束照射装置（2）；掩模（3），该掩模具有使电子束的一部分透过的开口部，以形成同时在抗蚀剂上进行描画的多束电子束；使滚筒模具（100）绕旋转轴旋转的旋转驱动装置（4）；对滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移量进行检测位移量检测传感器（5）；控制装置（6）；以及致动器（7），该致动器（7）根据来自该控制装置（6）的控制信号使电子束的描画位置与滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的位移随动，抑制滚筒模具（100）的向旋转轴（8）方向的旋转偏摆位移所导致的抗蚀剂的曝光位置的偏差。