公开(公告)号：CN1950750B

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN200580014721.7

申请日：2005-05-09

申请人： 旭化成电子材料株式会社

发明人： 佐藤守正 ,  田代朋子 ,  高岛正伸 ,  芹泽慎一郎

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/2008 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/001 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0295 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/09

摘要： 本发明的目的是提供能有效地抑制光敏层的感光度下降和能形成高度精细精确图案的图案形成材料、配备该图案形成材料的图案形成设备和使用所述图案形成材料的图案形成方法。为了达到该目的，提供一种图案形成材料，包含载体和载体上的光敏层，其中光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，光敏层利用激光束曝光，利用显影剂显影，形成图案，显影后产生厚度与曝光前的光敏层厚度基本相同的光敏层所需的最小激光束能量为0.1～10mJ/cm2。