公开(公告)号：CN107857480A

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201710860184.2

申请日：2017-09-21

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 佐藤启史 ,  似内佑辅 ,  中谷嘉孝 ,  山田兼士 ,  富永龙 ,  米道友广

IPC分类号： C03C15/00 ,  G02F1/1333

CPC分类号： C03C15/00 ,  G02F1/1333 ,  G02F2001/133302

摘要： 本发明提供玻璃板和玻璃板的制造方法。该玻璃板使成为吸附面的面粗糙化、且抑制反应气体对相反侧的半导体元件等的形成面的影响。玻璃板(1)包括第1主表面(10)、第2主表面(20)、第1端面(30)、第2端面(40)、第3端面(50)以及第4端面(60)。一边将玻璃板(1)在表面粗糙化装置(100)内输送一边使其第2主表面(20)被作为反应气体的氟化氢气体蚀刻，并尽量抑制反应气体对其他面的影响。特别是，第1主表面(10)的Al/Si的值大于第2主表面(20)的Al/Si的值，抑制Al自玻璃成分中被沥滤，使第1主表面(10)与形成于第1主表面(10)的半导体元件等的密合性良好。

公开(公告)号：CN106233433A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580019805.3

申请日：2015-04-15

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 富永龙 ,  佐藤启史 ,  似内佑辅 ,  深泽宁司 ,  城山厚 ,  中谷嘉孝 ,  若林沙枝

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/6776 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67173

摘要： 蚀刻装置(100)包括：蚀刻槽(110)，具有基板搬入口(111)及基板搬出口(112)；搬运装置(112)搬运基板(500)；喷嘴(130)，设置在蚀刻槽(110)的内部，向由搬运装置(120)搬运的基板500的背面(510)喷吹反应气体；及气流控制装置(140)，设置在蚀刻槽(110)的内部，抑制从基板搬入口(111)及基板搬出口(112)流入到蚀刻槽(110)的内部的外部气体向基板(500)的背面(510)与喷嘴(130)之间的间隙(131)的流入。(120)，从基板搬入口(111)朝向基板搬出口