公开(公告)号：CN116745600B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202180090044.6

申请日：2021-11-03

Applicant: 昂图创新有限公司

Inventor： A·沙查夫 ,  D·汤普森 ,  J·F·莱索因

IPC: G01N21/17 ,  G02B7/28 ,  G02B27/10 ,  G01N21/55 ,  G01N21/21

Abstract: 使用聚焦系统将来自光学计量设备的光聚焦到样本上的测量斑中。该聚焦系统使用从该测量斑反射的光的图像来确定该样本的期望位置处的最佳焦点位置。该聚焦系统选择反射光的诸如偏振状态或波长的特性以用于聚焦。该反射光的被选择用于确定焦点位置的该特性受到该样本的不同部分的不同影响。例如，从样本的顶表面反射的光可具有与由下面层反射的光不同的特性。该反射光的所选特性被该聚焦系统用来将该测量斑聚焦在该样本的该顶表面或下面层处。

公开(公告)号：CN116745600A

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN202180090044.6

申请日：2021-11-03

Applicant: 昂图创新有限公司

Inventor： A·沙查夫 ,  D·汤普森 ,  J·F·莱索因

IPC: G01N21/21

Abstract: 使用聚焦系统将来自光学计量设备的光聚焦到样本上的测量斑中。该聚焦系统使用从该测量斑反射的光的图像来确定该样本的期望位置处的最佳焦点位置。该聚焦系统选择反射光的诸如偏振状态或波长的特性以用于聚焦。该反射光的被选择用于确定焦点位置的该特性受到该样本的不同部分的不同影响。例如，从样本的顶表面反射的光可具有与由下面层反射的光不同的特性。该反射光的所选特性被该聚焦系统用来将该测量斑聚焦在该样本的该顶表面或下面层处。