公开(公告)号：CN113261082A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980085436.6

申请日：2019-12-10

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 谷本阳祐 ,  长田师门

IPC: H01L21/314

Abstract: 提供能够在不拆解腔室的状态下将附着在腔室的内表面或者与腔室连接的配管的内表面的含硫的附着物除去的附着物除去方法和成膜方法。使附着在腔室(10)的内表面以及与腔室(10)连接的排气用配管(15)的内表面中的至少一者的含硫的附着物，与含有含氧化合物气体的清洁气体反应，由此将该附着物除去。

公开(公告)号：CN113228235A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980083535.0

申请日：2019-12-03

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 谷本阳祐 ,  长田师门

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  C23C16/44

Abstract: 提供能够在不拆解腔室的状态下将附着在腔室的内表面或者与腔室连接的配管的内表面的含硫的附着物除去的附着物除去方法和成膜方法。使附着在腔室(10)的内表面以及与腔室(10)连接的排气用配管(15)的内表面中的至少一者的含硫的附着物，与含有含氢化合物气体的清洁气体反应，由此将该附着物除去。

公开(公告)号：CN113261081A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980085403.1

申请日：2019-12-10

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 谷本阳祐 ,  长田师门

IPC: H01L21/314

Abstract: 提供能够在不拆解腔室的状态下将附着在腔室的内表面或者与腔室连接的配管的内表面的含硫的附着物除去的附着物除去方法和成膜方法。使附着在腔室(10)的内表面以及与腔室(10)连接的排气用配管(15)的内表面中的至少一者的含硫的附着物，与含有含氟化合物气体的清洁气体反应，由此将该附着物除去。