公开(公告)号：CN100368443C

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200410080711.0

申请日：2004-10-08

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： C08F28/04 ,  C08G75/30 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146 ,  Y10S430/167

摘要： 光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有以式1这样的通式表示的第一单元和以式2这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。由此而提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、基板密接性、显影溶解性优良的光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN1616522A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN200410080712.5

申请日：2004-10-08

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： C08G75/30 ,  G03F7/04

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F12/20 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： 光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有式1这样的通式表示的第一单元及式2这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。还提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、基板密接性、显影溶解性优良的光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN1616501A

公开(公告)日：2005-05-18

申请号：CN200410080711.0

申请日：2004-10-08

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： C08F28/04 ,  C08G75/30 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/146 ,  Y10S430/167

摘要： 光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有以式1这样的通式表示的第一单元和以式2这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。由此而提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、基板密接性、显影溶解性优良的光致抗蚀剂材料。

公开(公告)号：CN1702551A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510073033.X

申请日：2005-05-27

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

摘要： 一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物包含由以化学式1的通式所表示的第一单元和以化学式2的通式所表示的第二单元形成的共聚物，其中R1、R2、R3、R7和R8相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4是碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5和R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基；R9为氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基。

公开(公告)号：CN1702550A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510072000.3

申请日：2005-05-25

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

摘要： 一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物具有以化学式1的通式所表示的单元，其中R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基；R6为含环酯化合物的基团、含有含羟基的脂环化合物的基团或者含有含六氟异丙醇的化合物的基团。

公开(公告)号：CN1611490A

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN200410076928.4

申请日：2004-09-03

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： C07C311/01 ,  C08F28/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08F220/18 ,  C08F212/02 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： 本发明能够提供一种对波长小于等于300nm带的曝光光的透过性优良、衬底密接性、显像溶解性优良的抗蚀材料。抗蚀材料的基础树脂含有由[化学式1]这样的通式所表示的单元。R1、R2及R3相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4为碳原子数大于等于0且小于等于20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5、R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数大于等于1且小于等于20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。

公开(公告)号：CN1702552A

公开(公告)日：2005-11-30

申请号：CN200510073036.3

申请日：2005-05-27

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 岸村真治 ,  远藤政孝 ,  屉子胜 ,  上田充 ,  饭森弘和 ,  福原敏明

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

摘要： 一种包含基础聚合物的抗蚀材料，其中基础聚合物中含有的化合物包含由以化学式1的通式所表示的第一单元和以化学式2的通式所表示的第二单元共同形成的共聚物，其中R1、R2、R3、R7、R8和R9相同或者不同，为氢原子、氟原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、或者氟代烷基；R4是碳原子数为0～20的直链亚烷基、或者支链或环状亚烷基；R5和R6相同或者不同，为氢原子、碳原子数为1～20的直链烷基、支链或环烷基、氟代烷基、或者由酸脱离出来的保护基。