薄膜形成装置及薄膜形成方法

    公开(公告)号:CN1132803A

    公开(公告)日:1996-10-09

    申请号:CN95117104.6

    申请日:1995-09-01

    IPC分类号: C23C28/00

    摘要: 提供一种薄膜形成装置和薄膜形成方法,具有至少一个物理蒸镀装置和至少一个化学蒸镀装置,由于具有将所述物理蒸镀装置和化学蒸镀装置分别接于共同的排气装置的排气管和排气路切换装置,所以装置是小型的,薄膜形成时间短。利用通过排气管2a将物理蒸镀装置3、通过排气管2b将化学蒸镀装置4、排气管2c将排气装置接到排气路切换装置1的结构,作成腔室至少为2个排气装置为1个的小型薄膜形成装置,在化学蒸镀时导入的原材料蒸汽不进入物理蒸镀装置内,可实行小型的薄膜形成时间短的薄膜成型。

    热电器件及其制造方法与红外线传感器

    公开(公告)号:CN1692504A

    公开(公告)日:2005-11-02

    申请号:CN200380100562.3

    申请日:2003-12-04

    摘要: 本发明涉及热电器件及其制造方法与红外线传感器,在基板上,按照如下顺序,依次形成:由包含从Ti、Co、Ni、Mg、Fe、Ca、Sr、Mn、Ba、Al及它们的氧化物群中选择的至少一种添加物的贵金属构成的第1电极层;厚度为0.5~5μm、化学成分是用分子式(Pb(1-y)Lay)Ti(1-y/4)O3(0<y≤0.2=或(Pb(1-y)Lay)(ZrxTi(1-x))(1-y/4)O3(0<x≤0.2或0.55≤x<0.8、0<y≤0.2)表示的钙钛矿型结晶构造的热电体层;以及,第2电极层形成,作成热电器件。