等离子显示面板的制造方法

    公开(公告)号:CN101667513B

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200910173337.1

    申请日:2009-06-04

    IPC分类号: H01J9/02

    CPC分类号: H01J11/12 H01J9/02 H01J11/40

    摘要: 本发明提供一种等离子显示面板的制造方法,抑制狭缝涂敷法的“凹陷现象”,并且,用不含有聚合物的原料形成保护层。其特征为,保护层的形成包括:(i)通过溅射法或蒸镀法等在形成于基板上的电介质层上形成第一保护层的工序;(ii)在第一保护层上涂敷MgO原料而形成MgO原料层的工序;及(iii)使MgO原料层干燥并由MgO原料层得到第二保护层的工序,MgO原料含有MgO粉状体、溶剂A、溶剂B而成,溶剂A的20℃下的蒸汽压为50Pa以上、溶剂B的20℃下的蒸汽压为7Pa以下,另外,溶剂B相对于全部溶剂的比例为3重量%以上。

    等离子显示面板的制造方法

    公开(公告)号:CN101667513A

    公开(公告)日:2010-03-10

    申请号:CN200910173337.1

    申请日:2009-06-04

    IPC分类号: H01J9/02

    CPC分类号: H01J11/12 H01J9/02 H01J11/40

    摘要: 本发明提供一种等离子显示面板的制造方法,抑制狭缝涂敷法的“凹陷现象”,并且,用不含有聚合物的原料形成保护层。其特征为,保护层的形成包括:(i)通过溅射法或蒸镀法等在形成于基板上的电介质层上形成第一保护层的工序;(ii)在第一保护层上涂敷MgO原料而形成MgO原料层的工序;及(iii)使MgO原料层干燥并由MgO原料层得到第二保护层的工序,MgO原料含有MgO粉状体、溶剂A、溶剂B而成,溶剂A的20℃下的蒸汽压为50Pa以上、溶剂B的20℃下的蒸汽压为7Pa以下,另外,溶剂B相对于全部溶剂的比例为3重量%以上。

    等离子体显示面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101887831B

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN201010178381.4

    申请日:2010-05-11

    IPC分类号: H01J9/02 H01J17/49

    CPC分类号: H01J11/12 H01J9/02 H01J11/38

    摘要: 本发明提供一种等离子体显示面板以及能够有效地防止或减轻形成电介质层时产生的裂纹,并且防止了等离子体显示面板完成后的亮度劣化的等离子体显示面板的制造方法。一种等离子体显示面板的制造方法,前面板的电介质层的形成包括:(i)制备包括玻璃成分、有机溶剂及二氧化硅粒子的介电原料的工序;(ii)向形成有电极的基板上供给介电原料,从所供给的介电原料中除去有机溶剂而形成介电前体层的工序;(iii)对介电前体层附加热处理,由介电前体层形成第一电介质层的工序;以及(iv)对第一电介质层的表面附加局部性的热处理,在第一电介质层的表面部分形成第二电介质层的工序。

    等离子体显示面板及其制造方法

    公开(公告)号:CN101887831A

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN201010178381.4

    申请日:2010-05-11

    IPC分类号: H01J9/24 H01J17/49 H01J17/16

    CPC分类号: H01J11/12 H01J9/02 H01J11/38

    摘要: 本发明提供一种等离子体显示面板以及能够有效地防止或减轻形成电介质层时产生的裂纹,并且防止了等离子体显示面板完成后的亮度劣化的等离子体显示面板的制造方法。一种等离子体显示面板的制造方法,前面板的电介质层的形成包括:(i)制备包括玻璃成分、有机溶剂及二氧化硅粒子的介电原料的工序;(ii)向形成有电极的基板上供给介电原料,从所供给的介电原料中除去有机溶剂而形成介电前体层的工序;(iii)对介电前体层附加热处理,由介电前体层形成第一电介质层的工序;以及(iv)对第一电介质层的表面附加局部性的热处理,在第一电介质层的表面部分形成第二电介质层的工序。