双光频梳发生装置及计测装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115698834A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202180040706.9

    申请日:2021-06-08

    Abstract: 双光频梳发生装置(201)具备:半导体基板(14);第1光频梳激光源(20),包括第1谐振器;第2光频梳激光源(21),包括第2谐振器,光脉冲的重复频率不同于第1光频梳激光源;两个以上的输出部,包括输出部(50、51);光波导(20w),将第1光频梳激光源(20)与输出部(50)连结;光波导(21w),将第2光频梳激光源(21)与输出部(51)连结;以及光波导(40),从光波导(20w)分支,与光波导(21w)耦合。第1光频梳激光源(20)、第2光频梳激光源(21)、两个以上的输出部、光波导(20w、21w、40)被集成于半导体基板(14)。

    测距系统
    2.
    发明公开
    测距系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN118355245A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202280079438.6

    申请日:2022-07-29

    Abstract: 测距系统(100)具备:光源(11);波长转换模块(12),通过对从光源(11)射出的光(L0)的基波(L1)的一部分进行波长转换,从而产生作为引导光向对象物(S)照射的高次谐波(G1);光电探测器(14),检测穿过波长转换模块(12)后的基波(L1)被对象物(S)反射所产生的反射光(L1r);以及信号处理部(15),基于光电探测器(14)的检测结果来计算到对象物(S)为止的距离。

    激光装置
    3.
    发明公开
    激光装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119301828A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202380043994.2

    申请日:2023-05-26

    Abstract: 激光装置(100)具备:第一光梳激光器(10);第二光梳激光器(20),重复频率与第一光梳激光器(10)的重复频率不同;检测部(70),检测由来自第一光梳激光器(10)的输出光和来自第二光梳激光器(20)的输出光形成的干涉光;以及控制电路(90)。控制电路(90)基于检测部(70)的输出来控制作为第一光梳激光器(10)的载波包络偏移频率的第一CEO频率、以及作为第二光梳激光器(20)的载波包络偏移频率的第二CEO频率中的至少一方,从而使作为第一CEO频率与第二CEO频率之差的差频变化。

    光计测装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112236084A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN201980037473.X

    申请日:2019-11-08

    Abstract: 本公开的一个方式所涉及的光计测装置具备光源、光检测器、控制电路和信号处理电路。所述控制电路使所述光源出射向测定对象照射的第1光脉冲及第2光脉冲,使所述光检测器在具有第1时间长度的第1期间中检测第1反射光脉冲的第1部分,并且使所述光检测器输出表示所述第1部分的光量的第1信号,使所述光检测器在具有第2时间长度的第2期间中检测第2反射光脉冲的第2部分,并且使所述光检测器输出表示所述第2部分的光量的第2信号。所述信号处理电路基于所述第1信号的变动及所述第2信号的变动,生成表示所述测定对象的内部状态的变动的信息。

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