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公开(公告)号：CN117015723A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202280020085.2
申请日：2022-02-08
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G01S17/34
Abstract: 计测装置具备：光源，射出用于照射物体的光，能够使上述光的频率变化；干涉光学系统，将上述光分离为参照光和照射光，使上述照射光被上述物体反射而产生的反射光与上述参照光干涉而生成干涉光；光检测器，接受上述干涉光，输出与上述干涉光的强度相应的信号；以及处理电路，对上述光源进行控制，基于从上述光检测器输出的上述信号，生成与上述物体的距离及/或速度有关的数据并输出，上述处理电路在第1模式下，使上述光源射出频率在第1频率范围内随时间变化的光，在第2模式下，使上述光源射出频率在与上述第1频率范围不同的第2频率范围内随时间变化的光。
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公开(公告)号：CN112219161A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：CN201980037030.0
申请日：2019-06-20
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 光器件具备：第1基板，其具有沿着第1方向和与所述第1方向交叉的第2方向扩展的表面；第2基板，其与所述第1基板相对向；多个隔壁，其位于所述第1基板与所述第2基板之间，沿着所述第1方向延伸；一个以上的光波导，其位于所述第1基板与所述第2基板之间，具备位于所述多个隔壁之间并沿着所述第1方向延伸的一个以上的电介质部件；以及一个以上的间隔件，其由所述第1基板和所述第2基板直接或者间接地夹持，位于所述一个以上的光波导的周围。
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公开(公告)号：CN118829904A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202280093281.2
申请日：2022-10-12
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 计测装置具备：光源，出射光；干涉光学系统，具备将从所述光源出射的所述光分离为参照光和用于照射物体的照射光的分光器，使所述照射光的至少一部分被所述物体反射而产生的反射光与所述参照光干涉来生成干涉光；至少1个光学元件，出射所述照射光的所述至少一部分；第1光检测器，检测所述干涉光；第2光检测器，检测监视光，该监视光是从所述光源出射的所述光的一部分、所述干涉光学系统中的所述照射光的一部分或者所述干涉光学系统中的所述参照光的一部分；以及处理电路，基于所述监视光的强度调整向外部出射的所述照射光的强度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118525220A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202280088238.7
申请日：2022-11-09
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 计测装置具备：光源；干涉光学系统，使来自所述光源的光分离为参照光和照射光，并使所述照射光被物体反射而产生的反射光与所述参照光干涉来生成干涉光；光学元件，出射所述照射光，而且接受所述反射光；以及光检测器，对所述干涉光进行检测，所述干涉光学系统具备分光器，该分光器输入来自所述光源的所述光，而且输出所述参照光及所述照射光，在将从所述分光器到所述光检测器为止的光路长度设为d1，将从所述分光器到所述光学元件为止的光路长度设为d2，将从所述光学元件到所述光检测器为止的光路长度设为d3，并将从所述分光器经过所述干涉光学系统的内部的噪声光路径并到达所述光检测器为止的光路长度设为d4时，满足d1≤d2+d3而且|d2+d3‑d1|≥|d4‑d1|的关系。
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公开(公告)号：CN117813529A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280055435.9
申请日：2022-08-17
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G01S17/34 , G01S17/931
Abstract: 传感装置具备：光源，出射频率被调制的光；干涉光学系统，将从所述光源出射的所述光分离为参照光和输出光，并生成通过所述输出光在物体的反射点被反射而产生的反射光与所述参照光所成的干涉光；光检测器，接受所述干涉光，并输出与所述干涉光的强度相应的检测信号；以及处理电路，对所述检测信号进行处理。所述处理电路从所述处理电路能够输出的多个数据形式中选择特定的数据形式，基于所述检测信号生成具有被选择的所述特定的数据形式的计测数据，并输出包括所述计测数据的输出数据。
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公开(公告)号：CN119213330A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380038545.9
申请日：2023-02-02
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 计测装置具备：光源，射出光；干涉光学系统，将从上述光源射出的上述光分离为参照光和用来照射物体的照射光，并且使上述照射光被上述物体反射而产生的反射光与上述参照光干涉而生成干涉光；输出纤维，与上述干涉光学系统连接，对上述照射光进行导波；光学元件，与上述输出纤维连接，射出上述照射光；第1壳体，收容上述光源及上述干涉光学系统；以及第2壳体，收容上述第1壳体；上述输出纤维从上述第1壳体直接引出。
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公开(公告)号：CN116997820A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202280020080.X
申请日：2022-02-15
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: G01S17/34
Abstract: 计测装置具备光源、干涉光学系统、光检测器、处理电路和存储装置。干涉光学系统将从所述光源出射的光分离为参照光和输出光，并生成所述输出光被对象物反射而产生的反射光与所述参照光的干涉光。所述光检测器输出与所述干涉光的强度相应的检测信号。所述处理电路对从所述光源出射的所述光的频率以包括频率增加的向上啁啾期间以及频率减少的向下啁啾期间的周期进行调制。所述存储装置存储用于所述向上啁啾期间的第1校正用数据以及用于所述向下啁啾期间的第2校正用数据。所述处理电路根据基于所述第1校正用数据或者所述第2校正用数据对所述检测信号进行校正而得到的信号，决定距离或者速度。
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公开(公告)号：CN112470068A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201980048982.2
申请日：2019-08-07
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
Abstract: 光设备具备：第1镜；第2镜，与上述第1镜对置；光波导层，位于上述第1镜与上述第2镜之间，包含在被施加电压时折射率变化的材料；第1电极及第2电极，直接或间接地夹着上述光波导层，上述第1电极包括在上述第1方向上排列的多个电极部；以及控制电路。从上述光波导层经由上述第1镜射出上述光，或者经由上述第1镜向上述光波导层取入上述光。
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