公开(公告)号：CN115406348A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202210413192.3

申请日：2022-04-19

Applicant: 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 壁谷泰宏 ,  中岛伸也

IPC: G01B9/02055 ,  G01B11/24

Abstract: 本发明提供校正夹具、校正方法以及测定方法。校正夹具使用在向辊的周面上的被测定物照射测定光的光干涉测定装置的校正中，具备：圆筒面，其沿着辊的周面；主平面，其在圆筒面的相反侧与圆筒面的中心轴平行而设，被照射测定光；和2个顶点，其从主平面离开第1距离而配置，圆筒面是穿过圆筒面上的某1点且与圆筒面的中心轴正交的直线和穿过某1点且与主平面正交的直线所成的角度成为预先确定的角度的形状。

公开(公告)号：CN118922710A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202380033365.1

申请日：2023-02-15

Applicant: 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 壁谷泰宏 ,  浦岛毅吏

IPC: G01N21/17

Abstract: 在由光梳产生滤波器（205）调整成等频率间隔后的光被入射并从测定头（207）照射到测定对象（W）时，通过光分割单元（208）来将由光梳产生滤波器（205）调整成等频率间隔后的光分割为测定光和参照光，通过干涉光检测单元（210）来对将测定光的来自测定对象（W）的反射光和参照光合波后的干涉光进行检测。

公开(公告)号：CN113720265A

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN202110548953.1

申请日：2021-05-19

Applicant: 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 壁谷泰宏 ,  本间航也

IPC: G01B11/06 ,  B05C5/00 ,  B05C13/02 ,  B05C1/08 ,  B05C11/10

Abstract: 本公开提供片材制作装置以及片材制作方法，片材制作装置(1)将涂覆材料涂覆到片材材料(11)来制作多层片材。片材制作装置(1)具备：放射光源，射出放射光；分割部，将放射光分割成入射到多层片材的测定光和照射到参照面的参照光；和光学部件，向多层片材射出测定光，并且入射由多层片材反射后的测定光。片材制作装置(1)还具备：干涉检测部，检测由多层片材反射后的测定光和由参照面反射后的参照光的干涉光；和厚度计算部(62)，基于检测到的干涉光来计算多层片材的片材材料(11)以及涂覆材料的厚度。由此，能够缩短从多层片材的制作到厚度的计算的节拍时间。

公开(公告)号：CN117015723A

公开(公告)日：2023-11-07

申请号：CN202280020085.2

申请日：2022-02-08

Applicant: 松下知识产权经营株式会社

Inventor： 高木宏幸 ,  稻田安寿 ,  壁谷泰宏 ,  加藤弓子 ,  鸣海建治 ,  菊池孝平

IPC: G01S17/34

Abstract: 计测装置具备：光源，射出用于照射物体的光，能够使上述光的频率变化；干涉光学系统，将上述光分离为参照光和照射光，使上述照射光被上述物体反射而产生的反射光与上述参照光干涉而生成干涉光；光检测器，接受上述干涉光，输出与上述干涉光的强度相应的信号；以及处理电路，对上述光源进行控制，基于从上述光检测器输出的上述信号，生成与上述物体的距离及/或速度有关的数据并输出，上述处理电路在第1模式下，使上述光源射出频率在第1频率范围内随时间变化的光，在第2模式下，使上述光源射出频率在与上述第1频率范围不同的第2频率范围内随时间变化的光。