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公开(公告)号：CN116256238A
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202310199945.X
申请日：2023-03-02
摘要： 本发明涉及一种薄膜力学性能检测系统及检测方法，其检测系统包括压力传感机构、气体控制机构和数据采集处理机构，压力传感机构具有气腔，当待测膜体固定在压力传感机构上后，待测膜体密封于气腔的开口处，气体控制机构包括正压单元、负压单元和流量控制器，正压单元和负压单元均通过流量控制器与气腔相通，数据采集处理机构与气腔相通；本申请的薄膜力学性能检测系统，通过压力传感机构对待测膜体进行固定，通过气体控制机构向气腔内注入或抽出气体，使待测膜体在压强变化下发生形变，同时通过流量控制器调控正压单元的注气率和负压单元的抽气率，使气腔达到进气与漏气的动态平衡，进而使得气密性问题不会影响检测效果。
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公开(公告)号：CN116793558A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310192599.2
申请日：2023-03-02
摘要： 本发明涉及带反馈的膜片式压力传感系统，其包括主体、膜片以及反馈组件。主体设置气腔。膜片设置于气腔的开口处，膜片两侧产生压力差时，膜片形变并朝向压力较小一侧产生位移；反馈组件设置于主体，反馈组件用于提供作用于膜片的反馈场，膜片在反馈场的作用下形变产生位移。带反馈的膜片式压力传感系统在对待测环境压力进行检测时，膜片两侧的气压差使得膜片形变以发生位移，通过膜片的位移值可以确定待测环境压力。当需要扩大膜片所测压力范围时，可以通过反馈组件形成反馈场，使得膜片可以朝向与原形变位移方向相反的方向进行形变位移，使得膜片两侧的气压差得以增大，进而实现前述扩大膜片所测压力范围的效果。
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公开(公告)号：CN116698584A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310538545.7
申请日：2023-05-12
摘要： 本申请涉及一种薄膜应力的测试方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。所述方法包括：获取待测薄膜响应于入射声波的频响曲线；根据所述入射声波、所述待测薄膜的尺寸参数和测试环境参数建立等效集总模型；根据所述频响曲线和所述等效集总模型的预设频响曲线确定所述待测薄膜的应力。通过该方法可简化测量薄膜应力的测量步骤，同时，在测试过程中，考虑了测试环境参数的影响，可以提高薄膜应力的测试精准度。
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公开(公告)号：CN118183724A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410328730.8
申请日：2024-03-21
申请人： 松山湖材料实验室
IPC分类号： C01B32/194
摘要： 本发明属于悬空石墨烯薄膜材料技术领域，具体涉及一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用。该方法包括如下步骤：S1，将带生长衬底的石墨烯置于刻蚀液中，刻蚀除去生长衬底，得到浮于刻蚀液表面的石墨烯薄膜；S2，将刻蚀液置换为清水，将清水置换为不同张力溶液；S3，将不同张力溶液排空，使石墨烯薄膜贴附在目标基底上，得到不同张力的石墨烯薄膜；S4，数据处理，得到悬空石墨烯薄膜张力与溶液张力的关系曲线；S5，根据上述关系曲线，通过步骤S1～步骤S3实现对悬空石墨烯薄膜张力的调控。本发明方法可利用不同张力溶液对湿法转移的悬空石墨烯薄膜张力实现有效调控，填补了技术空白。
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公开(公告)号：CN118181823A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410328731.2
申请日：2024-03-21
申请人： 松山湖材料实验室
IPC分类号： B29C71/00 , G06F30/20 , B29L7/00 , G06F119/14
摘要： 本发明属于自支撑薄膜材料技术领域，具体涉及一种调控自支撑薄膜预应力的方法和应用。本发明的调控方法采用与自支撑薄膜具有不同接触角的调控溶液进行湿法转移自支撑薄膜，通过改变调控溶液浓度，可以有效改变溶液与材料(薄膜)之间的接触角，从而转移得到预应力不同的系列自支撑薄膜，实现了自支撑薄膜预应力的有效调控，填补了技术空白。本发明可根据需要应用的不同场景对自支撑薄膜预应力的要求进行精准调控，如：高预应力薄膜有较高的灵敏度可用作压力传感器元件；低预应力薄膜更加耐压，可应用于过滤薄膜，延长使用寿命，可靠性更好等。
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公开(公告)号：CN116822272A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310538627.1
申请日：2023-05-12
IPC分类号： G06F30/23
摘要： 本申请涉及一种电容式传声器的频响曲线的确定方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。所述电容式传声器包括振膜和电极板，所述方法包括：获取所述振膜的振膜参数以及所述电容式传声器的器件参数；根据所述振膜参数、所述器件参数确定预设等效模型的模型参数；根据确定的所述模型参数确定所述电容式传声器的等效集总模型；根据所述等效集总模型的频响曲线获取所述电容式传声器的频响曲线。本方法结合声波理论，综合考虑粗管和细管热粘滞效应，建立了全频段的通用等效集总模型，既适用微观尺度的MEMS传声器，也适用宏观尺度的驻极体传声器，无需结合有限元法计算声腔和气隙影响，提高了电容式传声器频响曲线的计算效率。
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公开(公告)号：CN116399501A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202310192525.9
申请日：2023-03-02
摘要： 本发明涉及一种压力传感探头与压力传感系统。压力传感探头包括主体及膜体组件。其中，所述主体设置气腔。所述膜体组件包括支撑环与石墨烯膜片，所述支撑环设置通孔；所述石墨烯膜片设置于所述支撑环的连接面，所述石墨烯膜片罩覆于所述通孔，所述膜体组件密封设置于所述气腔开口处；所述石墨烯膜片的直径‑厚度比的范围为1.0×106‑9.9×106，所述石墨烯膜片与所述支撑环相抵接的部分的宽度大于3mm。压力传感探头直径‑厚度比达到了106数量级，在进行压力探测时，其灵敏度可以达到200μm/Pa的高灵敏度。而且可探测的压力覆盖范围由1.25mPa至100Pa，压力覆盖范围较宽。压力传感探头进行检测时，石墨烯膜片不易与支撑环分离，确保压力传感探头的可靠性。
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公开(公告)号：CN219391202U
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202320369182.4
申请日：2023-03-02
摘要： 本实用新型涉及一种压力传感探头与压力传感系统。压力传感探头包括主体及膜体组件。其中，所述主体设置气腔。所述膜体组件包括支撑环与石墨烯膜片，所述支撑环设置通孔；所述石墨烯膜片设置于所述支撑环的连接面，所述石墨烯膜片罩覆于所述通孔，所述膜体组件密封设置于所述气腔开口处；所述石墨烯膜片的直径‑厚度比的范围为1.0×106‑9.9×106，所述石墨烯膜片与所述支撑环相抵接的部分的宽度大于3mm。压力传感探头直径‑厚度比达到了106数量级，在进行压力探测时，其灵敏度可以达到200μm/Pa的高灵敏度。而且可探测的压力覆盖范围由1.25mPa至100Pa，压力覆盖范围较宽。压力传感探头进行检测时，石墨烯膜片不易与支撑环分离，确保压力传感探头的可靠性。
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公开(公告)号：CN219870751U
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202320385175.3
申请日：2023-03-02
摘要： 本实用新型涉及一种薄膜力学性能检测系统，包括压力传感机构、气体控制机构和数据采集处理机构，压力传感机构具有气腔，当待测膜体固定在压力传感机构上后，待测膜体密封于气腔的开口处，气体控制机构包括正压单元、负压单元和流量控制器，正压单元和负压单元均通过流量控制器与气腔相通，数据采集处理机构与气腔相通；本申请的薄膜力学性能检测系统，通过压力传感机构对待测膜体进行固定，通过气体控制机构向气腔内注入或抽出气体，使待测膜体在压强变化下发生形变，同时通过流量控制器调控正压单元的注气率和负压单元的抽气率，使气腔达到进气与漏气的动态平衡，进而使得气密性问题不会影响检测效果。
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公开(公告)号：CN219495532U
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202320369372.6
申请日：2023-03-02
摘要： 本实用新型涉及带反馈的膜片式压力传感系统，其包括主体、膜片以及反馈组件。主体设置气腔。膜片设置于气腔的开口处，膜片两侧产生压力差时，膜片形变并朝向压力较小一侧产生位移；反馈组件设置于主体，反馈组件用于提供作用于膜片的反馈场，膜片在反馈场的作用下形变产生位移。带反馈的膜片式压力传感系统在对待测环境压力进行检测时，膜片两侧的气压差使得膜片形变以发生位移，通过膜片的位移值可以确定待测环境压力。当需要扩大膜片所测压力范围时，可以通过反馈组件形成反馈场，使得膜片可以朝向与原形变位移方向相反的方向进行形变位移，使得膜片两侧的气压差得以增大，进而实现前述扩大膜片所测压力范围的效果。
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