公开(公告)号：CN110869213B

公开(公告)日：2022-04-19

申请号：CN201880045420.8

申请日：2018-05-30

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 下村明久 ,  铃木绫子 ,  佐藤洋平 ,  中野阳介 ,  江口秀幸 ,  山田晃久

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16 ,  B41J2/165

Abstract: 本发明提高喷嘴基板的射出面侧的与防液剂的反应性剂对于墨的耐受性、防止防液性的降低。喷墨记录装置的喷墨头具备喷嘴基板(40A)。喷嘴基板(40A)为具有以下的喷嘴基板：形成有将墨射出的喷嘴(2411)的基材部(41)、在基材部(41)的射出面侧形成且具有碳氧化硅膜的防液层基底膜(42A)、和在防液层基底膜(42A)的射出面侧形成的防液层(43)。

公开(公告)号：CN110869213A

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201880045420.8

申请日：2018-05-30

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 下村明久 ,  铃木绫子 ,  佐藤洋平 ,  中野阳介 ,  江口秀幸 ,  山田晃久

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16 ,  B41J2/165

Abstract: 本发明提高喷嘴基板的射出面侧的与防液剂的反应性剂对于墨的耐受性、防止防液性的降低。喷墨记录装置的喷墨头具备喷嘴基板40A。喷嘴基板40A为具有以下的喷嘴基板：形成有将墨射出的喷嘴2411的基材部41、在基材部41的射出面侧形成且具有碳氧化硅膜的防液层基底膜42A、和在防液层基底膜42A的射出面侧形成的防液层43。