公开(公告)号：CN106232346B

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201580020650.5

申请日：2015-04-23

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 广濑达也 ,  大石清

IPC: B32B9/00 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B27/00 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明的课题在于提供在成膜中及将成膜了的长尺寸的膜卷取为卷状时可以抑制由膜的表面·背面间的接触带电等所引起的异物在膜上的附着的气体阻隔膜及其制造方法。本发明的气体阻隔膜(10)为在基材(1)的一面上具有气体阻隔层(2)、在基材的相反侧的面上具有保护膜(3)的气体阻隔膜，其特征在于，保护膜具有粘合层(32)、介由粘合层而配设于基材，在将长尺寸状的气体阻隔膜卷绕成卷状时，将相互接触的、气体阻隔层的表面与保护膜的表面的算术平均粗糙度分别设为Ra1和Ra2时，Ra2的值为Ra1的值的3倍以上，且长尺寸状的气体阻隔膜的总厚为60μm以上。

公开(公告)号：CN118810086A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202410447117.8

申请日：2024-04-15

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 川野友辉 ,  广濑达也 ,  石毛秀和 ,  岛根龙太郎 ,  最上尚行 ,  中江叶月

IPC: B29D7/01

Abstract: 本发明的课题在于提供使制造时的损失降低的光学膜的制造管理系统、光学膜的制造管理程序和光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造管理系统的特征在于，是从已卷取的多个坯膜中确定投入下一工序中的上述坯膜、并确定光学膜的制造顺序的光学膜的制造管理系统，并具有：与各个上述坯膜的特性有关的信息取得部；与各个上述坯膜的至少卷内侧或卷外侧的上述特性有关的信息提取部；与提取出的至少上述卷内侧或卷外侧的上述特性有关的信息处理部；以及基于经处理的与至少上述卷内侧或卷外侧的上述特性有关的信息确定关于上述下一工序中的上述坯膜的投入的顺序确定部。

公开(公告)号：CN106232346A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580020650.5

申请日：2015-04-23

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 广濑达也 ,  大石清

IPC: B32B9/00 ,  B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B27/00 ,  C23C16/50

CPC classification number: B05D3/10 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B27/00 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明的课题在于提供在成膜中及将成膜了的长尺寸的膜卷取为卷状时可以抑制由膜的表面·背面间的接触带电等所引起的异物在膜上的附着的气体阻隔膜及其制造方法。本发明的气体阻隔膜(10)为在基材(1)的一面上具有气体阻隔层(2)、在基材的相反侧的面上具有保护膜层(32)、介由粘合层而配设于基材，在将长尺寸状的气体阻隔膜卷绕成卷状时，将相互接触的、气体阻隔层的表面与保护膜的表面的算术平均粗糙度分别设为Ra1和Ra2时，Ra2的值为Ra1的值的3倍以上，且长尺寸状的气体阻隔膜的总厚为60μm以上。(3)的气体阻隔膜，其特征在于，保护膜具有粘合