公开(公告)号：CN118103214A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202180102357.9

申请日：2021-09-16

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 山田晃久 ,  田中勇作 ,  松田亮二 ,  竹内爱绘里

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

Abstract: 本发明的喷墨装置具备基材、以至少一个主面与所述基材接触的方式进行了叠层的树脂层、和以油墨与所述树脂层的一部分接触而流通的方式进行了配设的油墨流路，其中，所述树脂层包含碳、氧、氮和硅，并且所述主面的至少一个面满足以下的(1)和(2)的要件。(1)所述主面与所述基材接触。(2)通过X射线光电子能谱法测定的所述树脂层的所述主面和内部中的氮、氧和硅的原子浓度(atm％)之间的关系为：主面O>内部O且主面N>0，并且主面Si/内部Si为5以上。

公开(公告)号：CN108368604A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680074911.6

申请日：2016-12-07

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 地大英隆 ,  松田亮二

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明提供降低从目标膜厚的偏移的成膜装置。成膜装置(1)是(n+1)层以上(n是1以上的正整数。)的多层膜的成膜装置。成膜装置(1)具备：鼓(10)，其一边支承基板(50)一边旋转；成膜机构(20)，其对基板(50)进行成膜处理；以及控制机构(40)，其是控制鼓(10)的旋转的控制机构(40)，根据多层膜的目标膜厚、初始设定的成膜机构(20)的成膜速率以及初始设定的鼓(10)的转速计算鼓(10)的旋转数，并调整鼓(10)的转速，使计算出的鼓(10)的旋转数接近整数。