公开(公告)号：CN118922919A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202280093735.6

申请日：2022-03-17

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 小川善行 ,  梶田大士

IPC: H01L21/306 ,  B41J2/14 ,  B41J2/16

Abstract: 喷嘴板(110)在单晶硅基板(B)的第一面(Ba)具备多个形成有用于排出液滴的喷嘴(N)的喷嘴流路(111)，单晶硅基板(B)的第一面(Ba)和与第一面(Ba)对置的第二面(Bb)为{110}面。因此，第一面(Ba)侧的喷嘴流路(111)的开口部能够为大致平行四边形形状，能够提高喷嘴密度。

公开(公告)号：CN117769495A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202280052282.2

申请日：2022-07-25

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 梶田大士 ,  鲛岛幸一

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

Abstract: 喷嘴板(110)具备多个在单晶硅基板(B)的第一面(Ba)形成有用于排出液滴的喷嘴开口部(N)的喷嘴流路(111)，其中，喷嘴流路(111)具备：喷嘴锥形部(1112)，随着从第一面(Ba)朝向与第一面(Ba)对置的第二面(Bb)，与液滴的排出方向正交的截面积亦即流路面积逐渐变宽广；平直连通部(1113)，与喷嘴锥形部(1112)的第二面(Bb)侧的端部连续，平直连通部(1113)的对置的一组面大致平行，构成平直连通部(1113)的面与第二面(Bb)相交的边中的、对置的一组面的边的长度比其他的面的边的长度长，喷嘴锥形部(1112)包括晶面为大致{111}面的4个面。

公开(公告)号：CN117529407A

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN202280043203.1

申请日：2022-05-30

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 梶田大士 ,  鲛岛幸一

IPC: B41J2/14

Abstract: 一种喷嘴板110，具备：基板B；喷嘴流路111，贯通基板B地设置，具备吐出液滴的喷嘴开口部N；以及排出流路C，从喷嘴流路111排出液体，喷嘴流路111具备随着朝向基板B的液滴被吐出的吐出面Ba而作为与液滴的吐出方向正交的剖面面积的流路面积逐渐变窄的喷嘴锥形部1112，排出流路C在从吐出面侧观察时设置于喷嘴锥形部1112的途中。

公开(公告)号：CN117136139A

公开(公告)日：2023-11-28

申请号：CN202180096592.X

申请日：2021-03-31

Applicant: 柯尼卡美能达株式会社

Inventor： 梶田大士 ,  鲛岛幸一

IPC: B41J2/16

Abstract: 经过下述工序(1)～工序(5)，制造在喷嘴孔至少具有喷嘴锥部(12)和直线连通路(13)的喷嘴板。工序1(S－1)：准备表面的晶向为(100)面的单晶硅基板(1)的工序，工序2(S－2)：在上述单晶硅基板的表面，同样地形成掩模层(2)的工序，工序3(S－3)：在上述掩模层形成开口图案3的工序，工序4(S－4)：通过对位于上述开口图案下的单晶硅基板从表面利用干式蚀刻进行贯通加工而形成贯通孔4的工序，工序5(S－5)：通过对上述单晶硅基板的各向异性湿式蚀刻放大上述贯通孔，从而形成喷嘴锥部和与该喷嘴锥部连续的直线连通路的工序。