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发明公开
有微孔的钛或钛合金的氧化薄膜的制造方法无效

公开(公告)号：CN111094634A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880059921.1

申请日：2018-09-14

Applicant: 栗田工业株式会社

Inventor： 吉村南美 , 永井达夫

IPC: C25D11/26

Abstract: 处理装置(1)具有处理槽(2)以及设置在该处理槽(2)内的阴极部件(4)和阳极部件(5)，上述阴极部件(4)和阳极部件(5)分别连接于直流电源(3)的负极和正极。在该处理装置1中，阳极部件(5)是被处理部件，其使用的是使用了钛或钛合金制薄膜制成的部件。将溶解了0.5重量％以下的氟化氢的化合物的氧化剂浓度为5g/L以上的硫酸溶液或电解硫酸液(S)装在该处理槽(2)内，以1～20A/dm2的电流密度进行电解处理。所述处理装置能够适用于由钛或钛合金薄膜来制造有100nm以下的孔的钛或钛合金的氧化薄膜的方法。

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