公开(公告)号：CN103782160A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201280042363.0

申请日：2012-09-03

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏 ,  中谷茂

IPC: G01N21/85 ,  G01N21/3504 ,  G01N1/22

CPC classification number: G01N33/007 ,  G01M15/102 ,  G01N1/2252 ,  G01N21/85 ,  G01N33/0054 ,  G01N2021/3595 ,  Y02A50/246

Abstract: 本发明提供气体分析装置及其使用的污垢检测方法。气体分析装置包括：气体注入机构（3），向试样气体流动的流动通道（11）中注入吸附性的注入气体；气体测量机构（21），能测量与在所述流动通道（11）中流动的吸附性气体的量相关联的值；污垢判断部（41），根据由所述气体测量机构（21）测量出的与所述吸附性气体的测量响应速度相关联的值，判断所述流动通道中的污垢。由此，在吸附性气体的测量中，即使在少量的污垢也有很大影响的情况下，也可以高灵敏度地检测出吸附性气体。

公开(公告)号：CN103175786B

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201210551626.2

申请日：2012-12-18

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏 ,  中谷茂

IPC: G01N21/3504 ,  G01J3/453 ,  G01J3/02

CPC classification number: G16C20/10 ,  G01J3/027 ,  G01J3/4535 ,  G01N21/3504 ,  G01N2021/3595 ,  G01N2201/129

Abstract: 本发明提供在对一个或多个测量对象成分进行的定量分析中能同时降低干扰影响与测量误差的样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法。样品气体分析装置（100）使用向样品照射光而得到的光谱对所述样品中的一个或多个测量对象成分进行定量分析，并根据从开始产生样品气体到经过规定时间为止的第一产生条件以及经过所述规定时间后的第二产生条件对在多变量分析中使用的库数据进行切换，当处于第一产生条件时，使用对测量对象外成分的干扰影响进行了修正的第一库数据对多个测量对象成分进行定量分析，当处于第二产生条件时，使用没有对测量对象外成分的干扰影响进行修正的第二库数据对多个测量对象成分进行定量分析。

公开(公告)号：CN103175786A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201210551626.2

申请日：2012-12-18

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏 ,  中谷茂

IPC: G01N21/25 ,  G01N21/35

CPC classification number: G16C20/10 ,  G01J3/027 ,  G01J3/4535 ,  G01N21/3504 ,  G01N2021/3595 ,  G01N2201/129

Abstract: 本发明提供在对一个或多个测量对象成分进行的定量分析中能同时降低干扰影响与测量误差的样品气体分析装置与样品气体分析装置用方法。样品气体分析装置（100）使用向样品照射光而得到的光谱对所述样品中的一个或多个测量对象成分进行定量分析，并根据从开始产生样品气体到经过规定时间为止的第一产生条件以及经过所述规定时间后的第二产生条件对在多变量分析中使用的库数据进行切换，当处于第一产生条件时，使用对测量对象外成分的干扰影响进行了修正的第一库数据对多个测量对象成分进行定量分析，当处于第二产生条件时，使用没有对测量对象外成分的干扰影响进行修正的第二库数据对多个测量对象成分进行定量分析。

公开(公告)号：CN117178398A

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202280027418.4

申请日：2022-04-11

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏

IPC: H01M8/10 ,  H01M8/04701 ,  H01M8/0432

Abstract: 本发明提供评价装置、评价方法以及评价装置用程序。使温度条件变化来评价规定的评价对象(W)的性能的评价装置(100)具备：加热炉(1)，具有收纳所述评价对象(W)的炉内空间(1s)；调温机构(C)，对所述评价对象(W)或其周围进行加热或冷却来进行温度调节；温度取得部(34)，取得所述评价对象(W)或其周围的多个部位的温度；以及调温机构控制部(35)，控制所述调温机构(C)，以将所述温度取得部(34)所取得的多个部位的温度的温度差的绝对值维持在规定值以下。

公开(公告)号：CN103765210A

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201280042315.1

申请日：2012-09-03

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏 ,  中谷茂

IPC: G01N33/00

CPC classification number: G01M15/102 ,  G01N1/2252 ,  G01N21/3504 ,  G01N33/0037 ,  G01N2021/3595 ,  Y02A50/245

Abstract: 本发明提供吸附性气体分析装置和吸附性气体分析方法。吸附性气体分析装置包括：气体测量机构(21)，测量与在气体配管(1)内流动的吸附性气体的量相关联的值；气体注入机构(3)，至少在所述气体测量机构(21)测量所述吸附性气体期间，从比该气体测量机构(21)测量所述吸附性气体的测量点靠向上游，向所述气体配管(1)内注入规定量的具有吸附性的注入气体。由此，可以在吸附性气体的测量中减小响应延迟，可以实时进行各种条件下的吸附性气体的测量。

公开(公告)号：CN103185677A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201210573136.2

申请日：2012-12-26

Applicant: 株式会社堀场制作所

Inventor： 板谷隆宏 ,  青塚冬树

IPC: G01N1/28

CPC classification number: Y02T10/47

Abstract: 本发明的废气分析装置，使积存在气液分离室的水难以浸入到废气导出通道，并防止从气液分离室的上面滴落的水滴浸入，包含：气液分离室(41)；废气导入通道(42)，具有设置在形成气液分离室(41)的一个侧壁(401)的一侧的废气导入口(42x)；废气导出通道(43)，具有设置在形成气液分离室(41)的另一个侧壁(402)的一侧的废气导出口(43x)；排水通道(44)，在形成气液分离室(41)的侧壁(402)中设置位置比废气导出口(43x)低的排水口(44x)，废气导出通道(43)的废气导出口(43x)一侧在气液分离室(41)的内部向上侧弯曲，废气导出口(43x)朝向侧方开口。