公开(公告)号：CN110914760A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201880030036.0

申请日：2018-05-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 丹尼尔·基恩·史密斯 ,  大卫·M·威尔森 ,  多尼斯·G·弗拉杰罗 ,  麦可·B·宾纳德

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G21K1/06

Abstract: 一种反射系统具有参考轴且包括反射图案源(承载实质上一维图案)以及两个光学反射镜的组合，所述两个光学反射镜依序设置以将入射于第一光学组件上的EUV辐射转移至图案源上，图案源的实质上一维图案设置于弯曲的表面中。在一种情形中，此种组合包括仅有两个光学反射镜(每一光学反射镜可含有多个构成组件)。所述组合相对于所述图案源设置成固定的空间及光学关系，且表示一维极紫外线曝光工具的照明单元(IU)，所述一维极紫外线曝光工具另外包括(包括投影光学子系统，所述投影光学子系统被配置成在图像平面上利用仅有两束辐射形成所述图案源的光学图像。所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的所述极紫外线辐射。

公开(公告)号：CN110914760B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN201880030036.0

申请日：2018-05-09

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 丹尼尔·基恩·史密斯 ,  大卫·M·威尔森 ,  多尼斯·G·弗拉杰罗 ,  麦可·B·宾纳德

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G21K1/06

Abstract: 一种反射系统、极紫外线曝光工具及光刻曝光工具。反射系统具有参考轴且包括反射图案源(承载一维图案)以及两个光学反射镜的组合，两个光学反射镜依序设置以将入射于第一光学组件上的EUV辐射转移至图案源上，图案源的一维图案设置于弯曲的表面中。在一种情形中，此种组合包括仅有两个光学反射镜(每一光学反射镜可含有多个构成组件)。所述组合相对于所述图案源设置成固定的空间及光学关系，且表示一维极紫外线曝光工具的照明单元，一维极紫外线曝光工具另外包括投影光学子系统，投影光学子系统被配置成在图像平面上利用仅有两束辐射形成所述图案源的光学图像。所述仅有两束辐射在所述图案源处起源于被转移至所述图案源上的极紫外线辐射。

公开(公告)号：CN119563140A

公开(公告)日：2025-03-04

申请号：CN202380037627.1

申请日：2023-05-02

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 多尼斯·G·弗拉杰罗 ,  顾祥龙 ,  袁宝山

IPC: G03F7/00

Abstract: 利用使用空间成像系统来监测与无掩膜光刻系统相关联的耀斑的系统及方法，而解决无掩膜光刻系统中存在过量耀斑的问题。