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公开(公告)号：CN1439932A
公开(公告)日：2003-09-03
申请号：CN02120076.9
申请日：2002-05-22
Applicant: 株式会社德成
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/425 , C11D7/263 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5013 , G03F7/426 , H01L21/02052 , H01L21/31133
Abstract: 本发明公开的是用于脱除光刻胶的剥离组合物，该组合物包括至少一种由5－50％重量的乙酰乙酸酯或乙酸同脂肪酸胺反应得到的产物和50－95％重量选自水、25％重量四甲基氢氧化铵水溶液、二元醇和有机极性溶剂的溶剂。从剥离性看，这种组合物非常优秀，只需要用超纯水漂洗而不需要通过用空气刀脱除剥离组合物以及用异丙醇漂洗。另外，由于低挥发性和低毒性，该组合物给予环境很低的污染。此外，即使在没有防侵蚀剂的情况下，也不会侵蚀金属底涂层和管材底材，如O－型环。
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公开(公告)号：CN1235093C
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN02127602.1
申请日：2002-08-02
Applicant: 株式会社德成
IPC: G03F7/42
CPC classification number: C11D3/0073 , C11D7/08 , C11D11/0047 , G03F7/423 , H01L21/31133
Abstract: 本发明披露了一种抗蚀剂剥离剂组合物，它在蚀刻和灰化步骤之后对残余抗蚀剂具有优异的剥离性，并且对金属膜或无机材料膜形成的基片具有优异的耐腐蚀性。该剥离剂组合物包括：0.5-25%重量的在0.001N水溶液中在18℃时当量电导率为300Ω-1cm2当量-1或更高的电解材料、60.0-99.4%重量的水以及0.1-25.0%重量的腐蚀抑制剂。
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公开(公告)号：CN1207634C
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：CN02120076.9
申请日：2002-05-22
Applicant: 株式会社德成
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/425 , C11D7/263 , C11D7/3263 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5013 , G03F7/426 , H01L21/02052 , H01L21/31133
Abstract: 本发明公开的是用于脱除光刻胶的剥离组合物，该组合物包括由5-50%重量的乙酰乙酸酯或乙酸中的至少一种同脂肪酸胺反应得到的产物和50-95%重量选自水、25%重量四甲基氢氧化铵水溶液、二元醇或有机极性溶剂的溶剂。从剥离性看，这种组合物非常优秀，只需要用超纯水漂洗而不需要通过用空气刀脱除剥离组合物以及用异丙醇漂洗。另外，由于低挥发性和低毒性，该组合物给予环境很低的污染。此外，即使在没有防侵蚀剂的情况下，也不会侵蚀金属底涂层和管材底材，如O-型环。
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公开(公告)号：CN1452019A
公开(公告)日：2003-10-29
申请号：CN02127602.1
申请日：2002-08-02
Applicant: 株式会社德成
IPC: G03F7/42
CPC classification number: C11D3/0073 , C11D7/08 , C11D11/0047 , G03F7/423 , H01L21/31133
Abstract: 本发明披露了一种抗蚀剂剥离剂组合物，它在蚀刻和灰化步骤之后对残余抗蚀剂具有优异的剥离性，并且对金属膜或无机材料膜形成的基片具有优异的耐腐蚀性。该剥离剂组合物包括：0.5－25％重量的在0.001N水溶液中在18℃时当量电导率为300Ω－1cm2当量－1或更高的电解材料、60.0－99.4％重量的水以及0.1－25.0％重量的腐蚀抑制剂。
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