公开(公告)号：CN1402089A

公开(公告)日：2003-03-12

申请号：CN01141490.1

申请日：2001-09-27

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔好星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种光刻胶用剥离液组合物，其特征在于，它是由把10－40％(重量)的选自脂肪伯胺、脂肪仲胺、脂肪叔胺和羟胺中的有机胺化合物和10－80％(重量)的选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单苯醚、丁基卡必醇、二乙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、乙酸二丙二醇单甲醚酯、二丙二醇单乙醚、三乙二醇中的至少1种以上的质子性极性溶剂混合，且在上述极性溶剂中至少含5－30％(重量)的低毒性/亲水性的极性溶剂二丙二醇单甲醚和/或乙酸二丙二醇单甲醚酯所构成的。该剥离液有优异的溶解性和剥离性，并对金属配线的腐蚀性低，对O形环和配管的侵害性小，低挥发性/低毒性可使得环境污染和对操作人员的毒性问题变为最小。

公开(公告)号：CN1235093C

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN02127602.1

申请日：2002-08-02

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔浩星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/42

CPC classification number: C11D3/0073 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明披露了一种抗蚀剂剥离剂组合物，它在蚀刻和灰化步骤之后对残余抗蚀剂具有优异的剥离性，并且对金属膜或无机材料膜形成的基片具有优异的耐腐蚀性。该剥离剂组合物包括：0.5-25%重量的在0.001N水溶液中在18℃时当量电导率为300Ω-1cm2当量-1或更高的电解材料、60.0-99.4%重量的水以及0.1-25.0%重量的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：CN1207634C

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：CN02120076.9

申请日：2002-05-22

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔浩星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/425 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明公开的是用于脱除光刻胶的剥离组合物，该组合物包括由5-50%重量的乙酰乙酸酯或乙酸中的至少一种同脂肪酸胺反应得到的产物和50-95%重量选自水、25%重量四甲基氢氧化铵水溶液、二元醇或有机极性溶剂的溶剂。从剥离性看，这种组合物非常优秀，只需要用超纯水漂洗而不需要通过用空气刀脱除剥离组合物以及用异丙醇漂洗。另外，由于低挥发性和低毒性，该组合物给予环境很低的污染。此外，即使在没有防侵蚀剂的情况下，也不会侵蚀金属底涂层和管材底材，如O-型环。

公开(公告)号：CN1423171A

公开(公告)日：2003-06-11

申请号：CN02103414.1

申请日：2002-02-04

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 金址洪 ,  崔好星 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/26

Abstract: 感光性树脂洗净用稀释剂,在感光性树脂层的图形曝光处理前,除去感光性树脂过程中所用的稀释剂,其特征是由戊二酸二甲酯、琥珀酸二甲酯、己二酸二甲酯,或这些组合而构成的群中选出的二碱基酯(DBE)构成。其具有优良的溶解性、低毒性、适当的挥发性等优异效果。

公开(公告)号：CN1403561A

公开(公告)日：2003-03-19

申请号：CN01134716.3

申请日：2001-11-08

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔好星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: C11D7/00 ,  H05K3/26

Abstract: 本发明提供了清洗感光性树脂用稀释剂组合物，具有优良的对感光性树脂有优异的溶解性、低蒸汽压、低毒性、除去不需要的感光膜。该组合物用10～90％(重量)的丙酸丙二醇单甲醚酯与由丙二醇单烷基醚类、乙酸丙二醇单烷基醚酯类、单氧羧酸酯类、烷基酯类和酮类组成的一组中选出的至少1种共溶剂混合来制备。

公开(公告)号：CN1439932A

公开(公告)日：2003-09-03

申请号：CN02120076.9

申请日：2002-05-22

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔浩星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/425 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明公开的是用于脱除光刻胶的剥离组合物，该组合物包括至少一种由5－50％重量的乙酰乙酸酯或乙酸同脂肪酸胺反应得到的产物和50－95％重量选自水、25％重量四甲基氢氧化铵水溶液、二元醇和有机极性溶剂的溶剂。从剥离性看，这种组合物非常优秀，只需要用超纯水漂洗而不需要通过用空气刀脱除剥离组合物以及用异丙醇漂洗。另外，由于低挥发性和低毒性，该组合物给予环境很低的污染。此外，即使在没有防侵蚀剂的情况下，也不会侵蚀金属底涂层和管材底材，如O－型环。

公开(公告)号：CN1452019A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN02127602.1

申请日：2002-08-02

Applicant: 株式会社德成

Inventor： 崔浩星 ,  金址洪 ,  金泰根 ,  吕相赫 ,  朴海成

IPC: G03F7/42

CPC classification number: C11D3/0073 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明披露了一种抗蚀剂剥离剂组合物，它在蚀刻和灰化步骤之后对残余抗蚀剂具有优异的剥离性，并且对金属膜或无机材料膜形成的基片具有优异的耐腐蚀性。该剥离剂组合物包括：0.5－25％重量的在0.001N水溶液中在18℃时当量电导率为300Ω－1cm2当量－1或更高的电解材料、60.0－99.4％重量的水以及0.1－25.0％重量的腐蚀抑制剂。