成膜装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112779507B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN201911094854.X

    申请日:2019-11-11

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本申请提供一种成膜装置,包括:真空容器;绕垂直轴线转动的基板保持单元,其能保持多个基板;位于所述真空容器内部的成膜区域,所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板;可拆卸地安装于所述真空容器内的隔离单元,其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开。本申请提供的成膜装置能够改善成膜质量。

    成膜装置
    2.
    发明公开
    成膜装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN112779507A

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201911094854.X

    申请日:2019-11-11

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本申请提供一种成膜装置,包括:真空容器;绕垂直轴线转动的基板保持单元,其能保持多个基板;位于所述真空容器内部的成膜区域,所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板;可拆卸地安装于所述真空容器内的隔离单元,其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开。本申请提供的成膜装置能够改善成膜质量。