公开(公告)号：CN100504560C

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200710129062.2

申请日：2007-07-11

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 三本胜 ,  渡边茂雄 ,  国弘立人

IPC: G02F1/1362 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B32B38/18 ,  B32B2038/1891 ,  B32B2309/68 ,  B32B2457/20 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1333 ,  Y10T156/17

Abstract: 提供一种能够在真空中高精度地进行基板粘结的基板粘结装置。其构成包括：搬入粘结前的2张基板的第1腔(C1)，进行基板粘结的第2腔(C2)，以及输出粘结后的基板的第3腔(C3)，将第1腔内部和第3腔内部从大气压可变控制为中真空状态，将第2腔(C2)从中真空可变控制为高真空，在第2腔内利用可上下移动地构成的静电吸附机构(25)接收上基板(30)，并可保持在上载台(9)上。

公开(公告)号：CN101114091A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710129062.2

申请日：2007-07-11

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 三本胜 ,  渡边茂雄 ,  国弘立人

IPC: G02F1/1362 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B32B38/18 ,  B32B2038/1891 ,  B32B2309/68 ,  B32B2457/20 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/1333 ,  Y10T156/17

Abstract: 提供一种能够在真空中高精度地进行基板粘结的基板粘结装置。其构成包括：搬入粘结前的2张基板的第1腔(C1)，进行基板粘结的第2腔(C2)，以及输出粘结后的基板的第3腔(C3)，将第1腔内部和第3腔内部从大气压可变控制为中真空状态，将第2腔(C2)从中真空可变控制为高真空，在第2腔内利用可上下移动地构成的静电吸附机构(25)接收上基板(30)，并可保持在上载台(9)上。