-
公开(公告)号：CN101605615A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880004042.5
申请日：2008-02-04
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
IPC: B08B3/12 , H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/12 , G02F1/1303 , G02F2001/133302
Abstract: 采用本发明方案之一的超声波洗涤方法时，在对存在溶存气体的洗涤液照射超声波后洗涤被洗涤物的情况下，按规定周期反复进行连续照射超声波至少0.2msec以上的工序；和停止照射超声波至少0.1msec以上的工序。由此，能防止阻碍超声波透过的粗大气泡的产生，高效产生有助于洗涤的自由基，能高效地洗涤被洗涤物。
-
公开(公告)号：CN101605615B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880004042.5
申请日：2008-02-04
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
IPC: B08B3/12 , H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333
CPC classification number: H01L21/02052 , B08B3/12 , G02F1/1303 , G02F2001/133302
Abstract: 采用本发明方案之一的超声波洗涤方法时，在对存在溶存气体的洗涤液照射超声波后洗涤被洗涤物的情况下，按规定周期反复进行连续照射超声波至少0.2msec以上的工序；和停止照射超声波至少0.1msec以上的工序。由此，能防止阻碍超声波透过的粗大气泡的产生，高效产生有助于洗涤的自由基，能高效地洗涤被洗涤物。
-
公开(公告)号：CN101052478A
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200580034591.3
申请日：2005-10-06
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , B08B3/02 , B08B2203/0288 , G10K11/352
Abstract: 一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其朝向所述被清洗物交替会聚频率1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101052478B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200580034591.3
申请日：2005-10-06
Applicant: 株式会社日立工业设备技术 , 国立大学法人东京大学
CPC classification number: B08B3/12 , B06B2201/71 , B08B3/02 , B08B2203/0288 , G10K11/352
Abstract: 一种超声波清洗装置，其利用施加了超声波的清洗液对被清洗物的表面附着的污渍进行超声波清洗，其特征在于，包括：清洗槽，其贮存所述清洗液；支承台，其在所述清洗液中支承所述被清洗物；超声波产生机构，其朝向所述被清洗物交替会聚频率1～10MHz的第一超声波、和频率在该第一超声波的二分之一以下的第二超声波；会聚位置调节机构，其调节从所述会聚的会聚位置到所述被清洗物的表面的距离；以及移动机构，其使所述超声波产生机构以及所述支承台的至少一个移动，使得由所述超声波产生机构所产生的超声波的效力充分遍及所述被清洗物的表面。
-
公开(公告)号：CN101722156A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910205177.4
申请日：2009-10-16
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
IPC: B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种即使是附着在塑料薄膜的表面的几μm这样非常细微的灰尘、薄膜片、污渍，都能连续地除去的薄膜的清洗装置。本发明中，具备一或两张平部件(53)和形成于该平部件(53)，相对于在平部件(53)平行行走的薄膜(12)的表里面的至少一个面侧，喷出清洗液的清洗液排出口(52)。
-
公开(公告)号：CN101712033A
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200910174766.0
申请日：2009-09-17
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
IPC: B08B3/12
Abstract: 本发明提供：塑料膜表面即使附着数μm的非常细微的尘埃、膜片、污染物也可以连续去除的膜的洗涤系统。该系统具有：对移动的膜(12)，采用洗涤液进行洗涤的洗涤部(36)；以及，把洗涤过的上述移动中的膜进行干燥的干燥部(38)。洗涤部(36)的结构是：具有一边使膜(12)移动边向该膜的表面背面的至少1个面供给洗涤液，通过至少沿1个面的水流进行洗涤。
-
公开(公告)号：CN101712033B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN200910174766.0
申请日：2009-09-17
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
IPC: B08B3/12
Abstract: 本发明提供：塑料膜表面即使附着数μm的非常细微的尘埃、膜片、污染物也可以连续去除的膜的洗涤系统。该系统具有：对移动的膜(12)，采用洗涤液进行洗涤的洗涤部(36)；以及，把洗涤过的上述移动中的膜进行干燥的干燥部(38)。洗涤部(36)的结构是：具有一边使膜(12)移动边向该膜的表面背面的至少1个面供给洗涤液，通过至少沿1个面的水流进行洗涤。
-
公开(公告)号：CN101722156B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200910205177.4
申请日：2009-10-16
Applicant: 株式会社日立工业设备技术
IPC: B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种即使是附着在塑料薄膜的表面的几μm这样非常细微的灰尘、薄膜片、污渍，都能连续地除去的薄膜的清洗装置。本发明中，具备一或两张平部件(53)和形成于该平部件(53)，相对于在平部件(53)平行行走的薄膜(12)的表里面的至少一个面侧，喷出清洗液的清洗液排出口(52)。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.037 seconds)
