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公开(公告)号:CN106233419B
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201480078349.5
申请日:2014-05-09
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/305 , G01N1/32 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/045 , H01J2237/3151
摘要: 本发明提供一种用于抑制由于利用低加速电压而产生的离子束照射而产生的试料热量上升的技术。在试料(3)的前方设置与遮蔽件(2)不同的遮蔽板(13)。该遮蔽板(13)与加工面重叠的位置开口,离子束仅通过该遮蔽板(13)的开口部,在其以外的位置用遮蔽板(13)遮蔽,不会照射试料(3)。另外,通过冷却遮蔽板(13)而进一步抑制试料的热量上升。
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公开(公告)号:CN106233419A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201480078349.5
申请日:2014-05-09
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/305 , G01N1/32 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/045 , H01J2237/3151
摘要: 本发明提供一种用于抑制由于利用低加速电压而产生的离子束照射而产生的试料热量上升的技术。在试料(3)的前方设置与遮蔽件(2)不同的遮蔽板(13)。该遮蔽板(13)与加工面重叠的位置开口,离子束仅通过该遮蔽板(13)的开口部,在其以外的位置用遮蔽板(13)遮蔽,不会照射试料(3)。另外,通过冷却遮蔽板(13)而进一步抑制试料的热量上升。
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