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公开(公告)号:CN104541355A
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201380041387.9
申请日:2013-07-01
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/18 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J2237/045 , H01J2237/164 , H01J2237/1825 , H01J2237/2602 , H01J2237/2605
摘要: 以往的带电粒子线装置均为专用于大气压下或者与大气压大致相等的压力的气体氛围下的观察而被制造的装置,不存在能够使用通常的高真空型带电粒子显微镜而简便地进行大气压或者与大气压大致相等的压力的气体氛围下的观察的装置。并且,在以往的方法中,无法相对于载置于上述的氛围下的试样的相同的位置同时地进行基于带电粒子线与光的观察。因此,在本发明中,具备:将一次带电粒子线照射至试样的带电粒子光学镜筒、对带电粒子光学镜筒的内部进行抽真空的真空泵、配置为对载置有试样的空间与带电粒子光学镜筒进行隔离并供一次带电粒子线透射或者通过的能够装卸的隔膜、以及相对于隔膜以及试样配置于带电粒子光学镜筒的相反的一侧并在带电粒子光学镜筒的光轴的延长线上具有光轴的至少一部分的光学显微镜。
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公开(公告)号:CN1589490A
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN02822954.1
申请日:2002-10-04
申请人: 应用材料以色列有限公司
发明人: 艾舍·珀尔
CPC分类号: H01J37/304 , H01J37/1471 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/1501 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
摘要: 本发明提供了一种方法,用于自动对准带电颗粒束与孔。从而引入散焦并基于图象移动计算的信号施加到偏转单元。进而提供了用于散光校正的方法。从而在改变到象散校正装置的信号时,对于产生的一组帧估计清晰度。
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公开(公告)号:CN103094031B
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201210438995.0
申请日:2012-11-06
申请人: FEI 公司
CPC分类号: G21K1/00 , H01J37/09 , H01J2237/045 , H01J2237/0453
摘要: 实现一种改进的限束孔阑结构及制作的方法。在位于支撑衬底中的空腔上方的薄的导电膜中制作孔阑开口,其中孔阑的尺寸和形状由导电膜中的开口确定,而不是由衬底确定。
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公开(公告)号:CN105659353A
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201480058375.1
申请日:2014-10-31
申请人: 株式会社日立高新技术
IPC分类号: H01J37/22
CPC分类号: H01J37/222 , H01J37/10 , H01J37/22 , H01J37/261 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/103 , H01J2237/221 , H01J2237/248 , H01J2237/2602
摘要: 本发明提供一种电子显微镜,提高限制视场光阑的位置调整作业中的作业性。在电子显微镜中,具备:摄影单元,其拍摄限制视场光阑插入前的观察视场作为映射图像;存储单元,其存储所述映射图像;提取单元,其拍摄所述光阑插入后的观察视场来提取所述光阑的轮廓线;绘制单元,其在所述映射图像上绘制所述轮廓线;以及显示单元,其显示由所述绘制单元绘制出的图像。
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公开(公告)号:CN103748483A
公开(公告)日:2014-04-23
申请号:CN201280039957.6
申请日:2012-06-07
申请人: 科磊股份有限公司
发明人: 迈赫兰·纳赛尔-古德西 , 克里斯多夫·西尔斯 , 罗伯特·海恩斯
IPC分类号: G01T3/00
CPC分类号: H01J37/244 , H01J2237/045 , H01J2237/24485 , H01J2237/2449 , H01J2237/2511 , H01J2237/2516
摘要: 一种背景减少系统可包含但不限于:带电粒子源,其经配置以产生带电粒子束;百叶窗结构,其包含一个或一个以上孔口,所述一个或一个以上孔口经配置以根据带电粒子的入射角而选择性地透射所述带电粒子;及带电粒子检测器,其经配置以接收由所述百叶窗结构选择性地透射的带电粒子。
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公开(公告)号:CN100341106C
公开(公告)日:2007-10-03
申请号:CN02822954.1
申请日:2002-10-04
申请人: 应用材料以色列有限公司
发明人: 艾舍·珀尔
CPC分类号: H01J37/304 , H01J37/1471 , H01J37/263 , H01J2237/045 , H01J2237/1501 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
摘要: 本发明提供了一种方法,用于自动对准带电颗粒束与孔。从而引入散焦并基于图象移动计算的信号施加到偏转单元。进而提供了用于散光校正的方法。从而在改变到象散校正装置的信号时,对于产生的一组帧估计清晰度。
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公开(公告)号:CN1795529A
公开(公告)日:2006-06-28
申请号:CN200480014578.7
申请日:2004-05-27
申请人: 迈普尔平版印刷IP有限公司
发明人: 彼得·克勒伊特 , 马尔科·扬-哈科·威兰
IPC分类号: H01J37/30
CPC分类号: H01J37/3007 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/045 , H01J2237/0453 , H01J2237/0492 , H01J2237/1501
摘要: 本发明涉及用于带电粒子束曝光装置的带电粒子光学系统,该系统包括:第一光圈装置,包括至少一个基本上圆形的第一光圈,用于部分屏蔽用来形成至少一个带电粒子小射束的发射的带电粒子束;透镜系统,包括至少一个用来将来自于所述第一光圈的带电粒子小射束进行聚焦的透镜,将其聚焦在该透镜的图像焦平面内或附近;偏转器装置,基本上位于该图像焦平面内,包括至少一个小射束偏转器,该偏转器用来在接收到控制信号后偏转经过的所述带电粒子小射束;以及第二光圈装置,包括至少一个位于第一光圈的共轭平面内的基本上圆形的第二光圈,并且该第二光圈与该第一光圈以及该小射束偏转器对准,用来阻挡由小射束偏转器偏转的带电粒子束,或者让其通过。
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公开(公告)号:CN106233419B
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201480078349.5
申请日:2014-05-09
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/305 , G01N1/32 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/045 , H01J2237/3151
摘要: 本发明提供一种用于抑制由于利用低加速电压而产生的离子束照射而产生的试料热量上升的技术。在试料(3)的前方设置与遮蔽件(2)不同的遮蔽板(13)。该遮蔽板(13)与加工面重叠的位置开口,离子束仅通过该遮蔽板(13)的开口部,在其以外的位置用遮蔽板(13)遮蔽,不会照射试料(3)。另外,通过冷却遮蔽板(13)而进一步抑制试料的热量上升。
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公开(公告)号:CN106233419A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201480078349.5
申请日:2014-05-09
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/305 , G01N1/32 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/3053 , H01J2237/045 , H01J2237/3151
摘要: 本发明提供一种用于抑制由于利用低加速电压而产生的离子束照射而产生的试料热量上升的技术。在试料(3)的前方设置与遮蔽件(2)不同的遮蔽板(13)。该遮蔽板(13)与加工面重叠的位置开口,离子束仅通过该遮蔽板(13)的开口部,在其以外的位置用遮蔽板(13)遮蔽,不会照射试料(3)。另外,通过冷却遮蔽板(13)而进一步抑制试料的热量上升。
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公开(公告)号:CN102428541B
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201080019578.1
申请日:2010-04-08
申请人: 瓦里安半导体设备公司
IPC分类号: H01L21/265 , H01L21/266 , H01L31/18
CPC分类号: H01L21/266 , H01J37/3171 , H01J2237/024 , H01J2237/045 , H01J2237/31711 , H01L31/18 , Y10T428/2457
摘要: 本发明中揭示一种用于处理基板的改良技术。在一特定例示性实施例中,所述技术可使用用于处理基板的遮罩而达成。所述遮罩可并入至诸如离子植入系统的基板处理系统中。所述遮罩可包括:第一基座;以及多个指状物,其彼此间隔开以界定一或多个间隙。
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