公开(公告)号：CN115023584A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202080094772.X

申请日：2020-03-30

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 备前大辅 ,  酒井计 ,  角田纯一 ,  白井真纯 ,  山崎实

IPC: G01B15/04

Abstract: 实现校正了机差的粗糙度测量。因此，使用表示粗糙度指标计算中的基准机对预先形成于机差管理用晶片上的线图案测量出的线图案的功率谱密度的第一PSD数据和表示校正对象机对形成于机差管理用晶片上的线图案测量出的线图案的功率谱密度的第二PSD数据，求出将第二PSD数据的功率谱密度校正为第一PSD数据的功率谱密度的校正方法，根据形成于测量对象晶片上的线图案的扫描像，测量形成于测量对象晶片上的线图案的功率谱密度而作为第三PSD数据，计算通过求出的校正方法校正第三PSD数据的功率谱密度后的校正功率谱密度。

公开(公告)号：CN115298794A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202080098588.2

申请日：2020-03-31

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 王宇 ,  山崎实 ,  笹气裕子

IPC: H01J37/28

Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内高效地求出装置的最佳参数的带电粒子束装置。本发明的带电粒子束装置具备：电子枪(1)，其向试样(10)照射电子束(2)；图像处理部(901)，其根据因电子束(2)从试样(10)产生的信号(12)得到试样(10)的图像；数据库(604)，其针对作为光学条件的第一参数、作为与装置性能相关的值的第二参数以及作为关于装置结构的信息的第三参数，保持相互的对应而存储多个解析值和测定值；以及学习器(605)，其从数据库(604)中搜索并求出满足第二参数的目标值的第一参数。