电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备

    公开(公告)号:CN114341745A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080062990.5

    申请日:2020-07-21

    Abstract: 提供了电子装置,其包括:载体;包括电荷传输材料的电荷传输层或包括增感染料的增感染料电极层,其中电荷传输层或增感染料电极层被设置在载体上或上方;和金属氧化物层,所述金属氧化物层被设置在电荷传输层或增感染料电极层上或上方,其中金属氧化物层包括p型半导体金属氧化物和二氧化硅或金属氧化物颗粒,并且其中金属氧化物层中包括的二氧化硅或金属氧化物颗粒量为相对于金属氧化物层0.5质量%以上但1.5质量%以下。

    感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法

    公开(公告)号:CN103472695A

    公开(公告)日:2013-12-25

    申请号:CN201310222704.9

    申请日:2013-06-06

    CPC classification number: G03G5/047 G03G5/0521 G03G5/0614

    Abstract: 本发明的题目是感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。本发明涉及感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。感光器包括导电基底和层压结构,所述层压结构由至少电荷产生层和电荷输送层形成,并且设置为覆盖在导电基底上,其中电荷输送层包含电荷输送材料、由下述式1表示的化合物和由下述式2表示的化合物:式1中,R1和R2每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团,并且R1和R2之一表示取代的或非取代的芳族烃基团,与相同氮原子键合的R1和R2可键合在一起以形成取代的或非取代的含氮杂环基团,并且Ar表示取代的或非取代的芳族烃基团;式2中,R3和R4每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团。

    电子装置及其生产方法、成像方法和成像设备

    公开(公告)号:CN114981987A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202080093712.6

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 一种电子装置,其包括:载体;包含电荷传输材料的电荷传输层或包含增感染料的增感染料电极层,其中该电荷传输层或增感染料电极层被设置在载体上或上方;含硅层,其被设置在电荷传输层或增感染料电极层上或上方;以及金属氧化物膜,其被设置在含硅层上或上方,其中比率[Q(ACL)/Q(CTL)]为10%或更大,其中Q(ACL)是通过飞行时间法测量的电子装置(ACL)的瞬态光电流波形的时间积分,和Q(CTL)是通过飞行时间法测量的电子装置(CTL)的瞬态光电流波形的时间积分。

    感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法

    公开(公告)号:CN103472695B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201310222704.9

    申请日:2013-06-06

    CPC classification number: G03G5/047 G03G5/0521 G03G5/0614

    Abstract: 本发明的题目是感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。本发明涉及感光器、图像形成装置、处理盒和图像形成方法。感光器包括导电基底和层压结构,所述层压结构由至少电荷产生层和电荷输送层形成,并且设置为覆盖在导电基底上,其中电荷输送层包含电荷输送材料、由下述式1表示的化合物和由下述式2表示的化合物:式1中,R1和R2每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团,并且R1和R2之一表示取代的或非取代的芳族烃基团,与相同氮原子键合的R1和R2可键合在一起以形成取代的或非取代的含氮杂环基团,并且Ar表示取代的或非取代的芳族烃基团;式2中,R3和R4每个独立地表示取代的或非取代的烷基基团或芳族烃基团。

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