公开(公告)号：CN109974599A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811434729.4

申请日：2018-11-28

Applicant: 株式会社高永科技

Inventor： 洪映周 ,  洪德和 ,  金玟奎 ,  崔桢熏

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括：光源，其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光；光传感器，其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据；及处理器，其基于所述光干涉数据，导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。

公开(公告)号：CN109974598A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811433244.3

申请日：2018-11-28

Applicant: 株式会社高永科技

Inventor： 洪映周 ,  洪德和 ,  金玟奎 ,  崔桢熏

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开的基板检查装置可以包括：第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像；处理器，其基于所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的一个区域；第二光源，其朝向所述一个区域照射激光；及第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据；所述处理器可以基于所述光干涉数据，导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。

公开(公告)号：CN209399934U

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：CN201821975696.X

申请日：2018-11-28

Applicant: 株式会社高永科技

Inventor： 洪映周 ,  洪德和 ,  金玟奎 ,  崔桢熏

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开提出一种基板检查装置。本公开的基板检查装置可以包括：光源，其朝向在基板上的一个区域涂覆的涂覆膜照射激光；光传感器，其获得由所述激光被所述涂覆膜的表面反射而生成的基准光及所述激光透过所述涂覆膜而散射的测量光之间的干涉引起的光干涉数据；及处理器，其基于所述光干涉数据，导出与所述一个区域相应的所述涂覆膜的厚度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209399935U

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：CN201821979651.X

申请日：2018-11-28

Applicant: 株式会社高永科技

Inventor： 洪映周 ,  洪德和 ,  金玟奎 ,  崔桢熏

IPC: G01B11/06

Abstract: 本公开的基板检查装置可以包括：第一光源，其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线；第一光传感器，其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像；处理器，其基于所述二维图像，导出所述基板的多个区域中的一个区域；第二光源，其朝向所述一个区域照射激光；及第二光传感器，其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据；所述处理器可以基于所述光干涉数据，导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利