公开(公告)号：CN215947405U

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202121616345.1

申请日：2021-07-15

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴相俊 ,  李恩政 ,  李建锡 ,  金大宪 ,  李根成 ,  金起焕

IPC: C23C16/455

Abstract: 本实用新型涉及颗粒涂布装置，根据所述颗粒涂布装置，能够向反应器内部均匀喷射反应气体，并且能够防止沿反应器的中心轴方向的瞬间压力上升。

公开(公告)号：CN118742388A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380021848.X

申请日：2023-10-12

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金义泰 ,  李恩政 ,  金起焕 ,  吴有镇 ,  朴聖恩 ,  李根成

IPC: B01J35/50 ,  B01J23/75 ,  B01J21/02 ,  B01J35/61 ,  B01J35/40 ,  C01B32/162

Abstract: 本发明涉及一种用于制造碳纳米管的催化剂，其包括载体、在所述载体的表面上形成的第一活性层、以及在所述第一活性层的表面上形成的第二活性层，其中，所述第一活性层包括氧化钴，且所述第二活性层包括氧化铝，本发明还涉及使用上述催化剂制造碳纳米管的方法，且本发明的催化剂能够更均匀且有效地合成小直径的碳纳米管。

公开(公告)号：CN117561215A

公开(公告)日：2024-02-13

申请号：CN202380012254.2

申请日：2023-01-12

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李根成 ,  金义泰 ,  李恩政 ,  吴有镇 ,  朴聖恩 ,  金起焕

IPC: C01B32/158

Abstract: 本发明涉及平均束厚度为10μm以上且D50为10μm以上的束型碳纳米管。所述碳纳米管具有优异的导电性和分散性，特别适合用作导电材料。

公开(公告)号：CN110770366A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201880040649.2

申请日：2018-06-22

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴相俊 ,  金钟硕 ,  李恩政 ,  金圣洙 ,  李在仁 ,  赵安部

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/54 ,  C03C17/00 ,  C03B35/20

Abstract: 本发明涉及用于涂覆多孔基底的表面的设备和方法，根据本发明的一个方面，提供了用于涂覆具有第一表面和与第一表面相对的第二表面的多孔基底的表面的设备，所述设备包括：用于将源气体供应至多孔基底的第一表面的第一供应部；用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第一表面朝向第二表面的方向上的流动流的第一泵送部；用于将源气体供应至多孔基底的第二表面的第二供应部；用于在多孔基底内部产生从多孔基底的第二表面朝向第一表面的方向上的流动流的第二泵送部；和用于输送基底的基底载体。

公开(公告)号：CN117500594A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202380012393.5

申请日：2023-01-12

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金义泰 ,  李恩政 ,  金起焕 ,  吴有镇 ,  朴聖恩 ,  李根成

IPC: B01J37/02

Abstract: 本发明涉及一种使用化学气相沉积法制备生产碳纳米管的催化剂的方法。使用上述制备方法，即使在具有3D结构的高比表面积载体的表面上也可以形成均匀且薄的涂层，并且可以使用通过该方法制备的催化剂生产高质量且小直径的碳纳米管。

公开(公告)号：CN117561119A

公开(公告)日：2024-02-13

申请号：CN202380012392.0

申请日：2023-01-12

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金义泰 ,  李恩政 ,  金起焕 ,  吴有镇 ,  朴聖恩 ,  李根成

IPC: B01J37/02

Abstract: 本发明涉及一种用于生产碳纳米管的催化剂，用于制备所述催化剂的方法，以及使用所述催化剂生产碳纳米管的方法，所述催化剂包括载体和形成于所述载体表面上的活性层，其中，所述活性层含有CoO和Co3O4，并且具有：通过XRD图测定，在2θ＝35°～38°处的一个峰，以及在2θ＝41°～44°处的一个峰，CoO和Co3O4中CoO的比例为55at％以上。根据本发明的催化剂能够有效地合成低直径碳纳米管。

公开(公告)号：CN112739850A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN202080005281.3

申请日：2020-01-23

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴相俊 ,  金起焕 ,  李恩政 ,  金容赞

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  C23C16/458

Abstract: 本发明涉及一种涂覆设备，具体涉及一种原子层沉积设备。根据原子层沉积设备，可以用不同种类的物质连续涂覆粉末颗粒的表面。

公开(公告)号：CN112243465A

公开(公告)日：2021-01-19

申请号：CN201980038062.2

申请日：2019-09-18

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴相俊 ,  金起焕 ,  李恩政

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/04 ,  C23C16/54

Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积设备，根据本发明的一个方面，在通过卷对卷(roll‑to roll)工序使基板行进时，可在充分确保气体暴露时间的同时减少气体消耗。