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公开(公告)号：CN103180735B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201280003445.4
申请日：2012-03-27
申请人： 株式会社NTT都科摩 , 国立大学法人东京大学
IPC分类号： G01N33/543 , C12M1/00 , C12N15/09 , G01N37/00
CPC分类号： B05D1/325 , B01J2219/00317 , B01J2219/00529 , B01J2219/00637 , B01J2219/00659 , B01J2219/00722 , B01J2219/00725 , B81B2201/0214 , B81B2201/058 , B81C1/00206 , C12N15/09 , G01N33/543 , G01N37/00
摘要： 本发明涉及一种制作二种以上软物质的微阵列的方法，其是使用聚对二甲苯树脂剥离法制作二种以上软物质的微阵列的方法，该方法具有下述工序：在基板上蒸镀第1层聚对二甲苯树脂，在第1层聚对二甲苯树脂上形成第1微图案，导入含有第1软物质的溶液，从而得到形成了第1微阵列的基板，接着对第1软物质进行冷冻干燥，由此得到冷冻干燥后的第1软物质的微阵列化基板：在所述的冷冻干燥后的第1软物质的微阵列化基板上蒸镀第2层聚对二甲苯树脂，将第1层和第2层的聚对二甲苯树脂贯穿，在与第1微图案不同的位置形成第2微图案，导入含有第2软物质的溶液，从而在基板上形成第2微阵列；将所述第1层和第2层的聚对二甲苯树脂剥离，由此在同一基板上形成第1以及第2软物质的微阵列。
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公开(公告)号：CN103180735A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201280003445.4
申请日：2012-03-27
申请人： 株式会社NTT都科摩 , 国立大学法人东京大学
IPC分类号： G01N33/543 , C12M1/00 , C12N15/09 , G01N37/00
CPC分类号： B05D1/325 , B01J2219/00317 , B01J2219/00529 , B01J2219/00637 , B01J2219/00659 , B01J2219/00722 , B01J2219/00725 , B81B2201/0214 , B81B2201/058 , B81C1/00206 , C12N15/09 , G01N33/543 , G01N37/00
摘要： 本发明涉及一种制作二种以上软物质的微阵列的方法，其是使用聚对二甲苯树脂剥离法制作二种以上软物质的微阵列的方法，该方法具有下述工序：在基板上蒸镀第1层聚对二甲苯树脂，在第1层聚对二甲苯树脂上形成第1微图案，导入含有第1软物质的溶液，从而得到形成了第1微阵列的基板，接着对第1软物质进行冷冻干燥，由此得到冷冻干燥后的第1软物质的微阵列化基板：在所述的冷冻干燥后的第1软物质的微阵列化基板上蒸镀第2层聚对二甲苯树脂，将第1层和第2层的聚对二甲苯树脂贯穿，在与第1微图案不同的位置形成第2微图案，导入含有第2软物质的溶液，从而在基板上形成第2微阵列；将所述第1层和第2层的聚对二甲苯树脂剥离，由此在同一基板上形成第1以及第2软物质的微阵列。
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